1993 Fiscal Year Annual Research Report
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05555208
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
幸田 清一郎 東京大学, 工学部, 教授 (10011107)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
岡田 文雄 ジャパンエナジー(株), 新材料研究所, 研究員
大島 義人 東京大学, 工学部, 講師 (70213709)
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| Keywords | レーザー誘起反応 / 連鎖反応制御 / シクロヘキサン / シクロヘキサノール / 部分酸化反応 / エキシマーレーザー / 光反応工学 |
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| Research Abstract |
本研究はレーザー光を用いて連鎖反応系を制御し、熱反応に比べて格段の特徴を有する実用性のある合成プロセスを開発することを目的とする。具体的な目標の一つは、シクロヘキサンからシクロヘキサノン・ノールを合成するような選択的部分酸化反応プロセスの開発である。さらにこれら具体的な開発研究を通して、レーザー光反応工学の実用的方法論を一般的に確立することを目指している。
本年度は、まず、従来進めてきた基礎研究レベルで明らかにされたシクロヘキサンの液相における部分酸化反応を対象として、今年度購入したエキシマーレーザー光源を用いて、実験面での詳細な検討を進めた。生成物の分析は常法により質量分析法とガスクロマトグラフ法によっている。反応に用いたレーザー光源はKrFエキシマーの領域、248nmを用いた。種々の条件下で実験を実施したが、特に、シクロヘキサンの中にとけ込む酸素量をコントロールして反応の収率、選択率に対する検討を行った。酸素の溶存量が少ないと反応は幾分抑制される。このため、酸素供給が、光量の大きい反応条件では重要であることが判明した。そして収率は光の強度にほぼ比例的に増加する。一方、反応の主要生成物はシクロヘキサノンとヘキサノールであり、その他の生成物は極く少ない。選択率は、酸素の供給量や光強度に対しては大きくは依存していなかった。すなわち、目的生成物の選択率の大きな反応であることが明かである。今後、光量子収率の測定を行い、その向上を計る必要がある。
さらに部分酸化反応系の対象を広げ、また連鎖反応制御の反応工学的な検討を深めるため、反応基質、反応相や媒体についても、範囲を広げて予備的な検討を開始している。
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Research Products
(1 results)
