1993 Fiscal Year Annual Research Report
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05557085
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
堀内 博 東北大学, 歯学部, 教授 (00013962)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
石幡 浩志 東北大学, 歯学部・付属病院, 医員
玉澤 かほる 東北大学, 歯学部・付属病院, 講師 (00124602)
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| Keywords | プラズマ放電 / 滅菌 / 酸素ガス |
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| Research Abstract |
本年度は基礎的諸条件を得る目的で以下の項目について検討を加えた。プラズマ処理条件は酸素流量50ml/min、出力電力100W、反射電力4Wとし、装置に付帯しているタイマーにて印加時間を設定した。
1.装置内の温度測定
耐圧ガラス管中にバイメタル式温度計を挿入し減圧した後、プラズマ処理を行った。その後、真空ポンプを停止し温度計を取り出して温度を読み取った。測定時の室温は22度であり、高周波電力1分間印加した後の温度は32℃、10分後では42℃であった。
2.器具表面の清浄効果
プラスチック製の容器に、蒸留水0.1mlを入れたもの(A群)、蒸留水0.05mlにアルブミン0.05gの混合物を入れたもの(B群)、アルブミン0.1gをいれたもの(C群)についてプラズマ処理を施した。試料の減少量は、2分後ではA群で0.07g、B群で0.05g、C群で0.01gであった。5分後ではA群0.1g、B群で0.06g、C群で0.02gであった。
3.清毒効果
口腔内細菌にて汚染した歯科用タービンハンドピース、歯ブラシ(A群)、およびリーマー、ファイル、レンツロなどの小器具類(B群)を対象として10分間のプラズマ処理を施した。これらを1本づつBHI液体培地(Brain Heart Infusion DIFCO社製、以下BHIと略す。A群では80ml、B群では3ml)に投入した。又、プラズマ処理をせずに細菌で汚染した器材を投入した培地を陽性の対照とし、器材を投入しない培地を陰性の対照とした。これらの培養基はいずれも37℃の好気的条件下で培養を行い、混濁の有無にて判定を行った。その結果A群では1週間後においてもいずれも陰性培養であった。B群においては10本のうち1本が陽性培養を示した。次年度は、高周波電力の印加条件(酸素流量、出力電力、印加時間、温度など)と滅菌所要時間について更に詳細な検討を行い、臨床使用の最適条件を決定する予定である。
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