1993 Fiscal Year Annual Research Report
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05650626
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| Research Institution | Teikyo University of Science & Technology |
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Principal Investigator |
堂山 昌男 西東京科学大学, 理工学部, 教授 (40010748)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
上殿 明良 筑波大学, 物質工学系, 講師 (20213374)
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| Keywords | 陽電子 / 半導体 / 結晶欠陥 |
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| Research Abstract |
金属中に打込まれた陽電子の状態は金属試料中の原子空孔、点欠陥などイオン密度の低い格子欠陥に非常に敏感である。半導体などの加工が微細化されるにつれ、結晶の欠陥の制御が重要になってきている。半導体中の結晶欠陥はその荷電状態がフェルミ準位によって異なるので、複雑である。すなわち、温度とともにフェルミ準位が変化し、それによって、結晶欠陥の荷電状態も変化する。陽電子は結晶欠陥の荷電状態にも敏感に反応するので、結晶にトラップされた陽電子の寿命、消滅時に放出されるガンマー線のドップラーの広がりを測定することにより測定することが出来る。
京大原子炉実験書でn型およびp型シリコンを30MeVの電子線で液体窒素温度で照射し、原子空孔をつくり、不純物と原子空孔との相互作用を試料温度を上げながら陽電子寿命、ドップラー広がりを測定して、解析した。液体窒素温度から試料温度を上げないよう新しいクライオスタットを作製した。
これまでの実験および解析では定量的に解析が行なわれていなかった。本論文ではこれを解析的に行なった結果、世界で行なわれていた解析は間違っていることがわかった。これらは平成5年8月末から9月にかけて行なわれたInternational Union of Materials Research Soceitiesの国際会議において発表された。
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Research Products
(6 results)
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[Publications] O.KOUCH & MASAO DOYAMA: "COMPUTER SIMULATION OF CRYSTAL GRO WTH OF SILICON" TRANSACTION OF MATERIALS RESEARCH SOC.JAPAN. (1994)
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[Publications] O.KOUCH & MASAO DOYAMA: "COMPUTER SIMULATION OF THE ELECTRUN OCLUPATION AT DEFECT AND IMPURITY LEVELSIN SILICON" JRANSACTION OF MATERIALS RESEARCH SOUETY OF JAPAN. (1994)
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[Publications] K.TERASHIMA,E.TOKIZAKI,A.UEDONO & S.TANIGAWA: "STUDY OF POINT DEFECTS IN BOLK ZuSe GROWN BY NONSTOIEHIOMETRIC ANNEALING" Jpn.J,Appl,Phys.32. 736-740 (1992)
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[Publications] A.IKARI,H.HAGA,O.YODA,A.UEDONO & S.TANIGAWA: "FORMATION OF OXYGEN CLUSTERS IN QUENCHED CR-AND MCZ-Si CRYSTALC" MAT.SCI.FORUM. 117-118. 69-72 (1993)
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[Publications] A.UEDONO & S.TANIGAWA: "POSITRON ANNIHILATION IN VITREOUS SILICA GLASSES" Jpn.J,Appl,Phys.32. 2687-2691 (1993)
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[Publications] A.UEDONO,L.WEI,S.TANIGAWA,R.SUZUKI,H.OHGAKI,T.MIKADO,H.KAMETANI,H.AKIYAMA,Y.YAMAGUCHI & M.KOUMARU: "CHARACTERIZATION OF SEPARATION BY EMPLANTED OXYGEN WAFERS BY MONOENERGETIC POSITRON BEAMS" Jpn.J.Appl,Phys.32. 3682-3686 (1993)
