大強度紫外線源を用いた光電離プラズマの研究

1993 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 05680396
• Research Institution: Kyushu University
• Principal Investigator: 田中 雅慶 九州大学, 総合理工学研究科, 助手 (90163576)
• Keywords: プラズマ / 紫外線 / 光電離 / 電子サイクロトロン波

Research Abstract

本研究の目的はプラズマを紫外線源として用い,光電離プラズマを発生させその物理過程を明らかにすることである。プラズマを紫外線源とするためには,電子密度1×10^<19>m^<-3>電子温度10eV以上のプラズマが必要となるが,従来のプラズマ生成法ではその実現は困難であった。本研究では,電子サイクロトロン波を採用して高密度プラズマを生成し,プラズマ電流によるジュール加熱入力も併用する方式を目指した。そのため,特殊な構造のマイクロ波ランチャーが必要で,その開発を行った。
新しいランチャーを用いてプラズマ発生実験を行ない,高密度プラズマ(1×10^<19>m^<-3>)が生成される事を確認した。また,プラズマ中に電流を流す実験も行い,20A程度まで通電できることを確認した。現在,100A通電のために改良を行っている。

Research Products

• [Publications] M.Tanaka: "Multi-Plate Microwave Launcher for Producing High Density ECR Plasmas" Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas and 11th Symposium on Plasma Processing. 343-346 (1994)
• [Publications] H.Shoyama: "High Density ECW Plasma Production with Counter-Injection of Microwaves" Proc.2nd Int.Conf.on Reactive Plasmas and 11th Symposium on Plasma Processing. 347-350 (1994)