1995 Fiscal Year Annual Research Report
前兆形強誘電体格子のレーザー成膜とLOフォノン・ゾーンフォールドの検証
| Project/Area Number |
06452120
|
|---|
| Research Institution | Osaka University |
|---|
Principal Investigator |
小林 猛 大阪大学, 基礎工学部, 教授 (80153617)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
藤井 龍彦 大阪大学, 基礎工学部, 助手 (40238530)
作田 健 大阪大学, 基礎工学部, 講師 (70221273)
|
|---|
| Keywords | 強誘電体 / 超格子 / LOフォノン / レーザーアブレーション / ゾーンフォールド |
|---|
| Research Abstract |
酸化物超薄膜の成長に非常に適した新しいレーザーアブレーション法“エクリプスPLD法"を開発した。この新しい技術を実用するために、内在する幾つかの課題の解決に当たった。最も効果的なアプローチはアブレーション粒子の飛行挙動を机上実験するための計算機シミュレーションの開発であった。概ね、実験内容が計算機によって表現出来るようになったのは成果であった。
超格子構造の試作に先立って誘電体材料SrBiTiOファミリーのヘテロエピタキシャル成長を進めた。新しい技術“エクリプスPLD"を用いてSrBiTiO/SrBiCaCuOヘテロ構造が精密にエピタキシャル成長できるようになった。
このような層状ペロブスカイト・ヘテロ接合結晶のFTIR評価を強力に進めてきた。LOフォノン共鳴による吸収スペクトルが正確にもとまり、各種原子による振動、回転モードの対応が得られるようになった。
|
-
[Publications] 小林 猛: "粒子拡散を利用する新しいレーザーアブレーション薄膜形成(エクリプス法)" レーザー研究. 23. 380-388 (1995)
-
[Publications] 立木 実: "新しいレーザーアブレーション法(エクリプスPLD法)" O plus E. 189. 61-66 (1995)
-
[Publications] Minoru Tachiki: "Heteroepitaxial Growth of SrBiTio/BiSrCuO Structure by ArF Excimer Laser Ablation" Jpn.J.Appl.Phys.34. L1145-L1147 (1995)
-
[Publications] Shingo Tomohisa: "Morphological Study of Epitaxial YBCO Films Grown by Eclipse Deposition" Int.Super.Elec.Conf. 453-455 (1995)
-
[Publications] Minoru Tachiki: "A Novel Heterojunction of SrBiTiO/BiSrCsCuO for MIS Application" Int.Super.Elec.Conf. 246-248 (1995)
-
[Publications] Takeshi Ashida: "Interfacial Degradation of Insulatory/YBaCuO Heterostructure due to Diffusion" Jpn.J.Appl.Phys.34. L23-L29 (1995)
