1995 Fiscal Year Annual Research Report

薄膜・界面形成の基礎

Research Project

Project/Area Number	07355014
Research Institution	Okayama University
Principal Investigator	岩見基弘岡山大学, 理学部, 教授 (80029123)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	西垣敏九州工業大学, 工学部, 教授 (60126943) 川崎昌博北海道大学, 電子科学研究所, 教授 (70110723) 中嶋堅志郎名古屋工業大学, 工学部, 教授 (80024305) 高橋邦夫東京工業大学, 工学部, 助手 (70226827) 中山弘神戸大学, 工学部, 助教授 (30164370)
Keywords	薄膜形成 / 界面形成 / 界面ボンド制御 / ヘテロ / ホモ接合
Research Abstract	本総合研究の目的を達成するために、以下のような研究連絡会議と研究成果報告講演会等を行った。 1.研究連絡会議本総合研究の分担研究者の研究成果と研究課題に基づいて、情報の交換と問題点の把握、及び今後の研究方針を討論した。開催日程等をを以下に示す。 (1)準備研究・調査の打ち合わせ(平成7年8月:大阪) (a)薄膜・界面形成の基礎理論・シミュレーション、(b)薄膜成長と界面形成の実験的研究、(c)薄膜・界面の分析・評価の主要な三つの研究課題について、各研究者の準備研究を基にした調査事項の分担、取りまとめ、及び、今後のスケジュール等について打ち合わせを行った。 (2)重点領域研究のための企画打ち合わせ(平成7年11月:大阪) 平成7年度に申請する平成9年度以後の重点領域研究のための具体的な研究企画について打ち合わせを行った。 (3)重点領域研究のための第2回企画打ち合わせ(平成8年2月:横浜) 上記(2)に続き最終打ち合わせを行った。 (4)総合研究とりまとめのための打ち合わせ会議(平成8年3月:東京) 本総合研究のとりまとめのための会合を持った。 2.研究成果報告講演会本総合研究の成果を、関心のある研究者に幅広く公開し、情報の交流と討論を行うために、以下のように成果報告講演等を行った。 (1)講演(平成7年10月:広島) 溶接学会全国大会の技術セッションにおいて講演(岩見)し、企業研究機関等の専門研究者から意見を求めた。 (2)第1回研究成果報告講演会(平成7年11月:大阪) 本グループの調査・研究成果を報告し、多くの意見を求めた。 (3)第2回研究成果報告講演会(平成8年2月:東京) 本研究の成果の取りまとめのための研究会を開き、検討・評価した。

Research Products

(7 results)

All Other

All Publications (7 results)

[Publications] C.Heck: "Epitaxial Growth of CrSi_2 on Si (001) Substrates and its Mechanisms." Thin Solid Films. (印刷中). (1996)
[Publications] H.Nakayama: "Growth Dynamics and an Order-Disorder Transition in Epitaxial Alloy Semiconductors." Surface Science. (印刷中). (1996)
[Publications] K.Takahashi: "Influence of the Stiffness of the Measurement System on the Elastic Adhesional Contact." Journal of Adhesion Science and Technology. 9. 1451-1464 (1995)
[Publications] O.Eryu: "Formation of a p-n Junction in Silicon Carbide by Aluminum Doping at Room Temperature Using a Pulsed Laser Doping Method." Applied Physics Letters. 67. 2052-2056 (1995)
[Publications] Z.Song: "X-ray Photoelectron Spectroscopy and Atomic Force Microscopy Surface Study of GaAa (100) Cleaning Procedures." Journal of Vacuum Science and Technology B. 13. 77-82 (1995)
[Publications] S.Nishigaki: "A Metastable Deexcitation Spectroscopy Study on the Oxygenation of Alkalated Ge (001) Surfaces." Surface Science. (印刷中). (1996)
[Publications] Motohiro Iwami: "Soft X-Ray Emission Spectroscopy : Valence Band Electronic Structures of Silicides and Nondestructive Depth Profiling,Metal-Semiconductor Interfaces" Ohmsha, 157-169 (1995)

1995 Fiscal Year Annual Research Report

薄膜・界面形成の基礎

Principal Investigator

岩見 基弘 岡山大学, 理学部, 教授 (80029123)

Research Products

[Publications] C.Heck: "Epitaxial Growth of CrSi_2 on Si (001) Substrates and its Mechanisms." Thin Solid Films. (印刷中). (1996)

[Publications] H.Nakayama: "Growth Dynamics and an Order-Disorder Transition in Epitaxial Alloy Semiconductors." Surface Science. (印刷中). (1996)

[Publications] K.Takahashi: "Influence of the Stiffness of the Measurement System on the Elastic Adhesional Contact." Journal of Adhesion Science and Technology. 9. 1451-1464 (1995)

[Publications] O.Eryu: "Formation of a p-n Junction in Silicon Carbide by Aluminum Doping at Room Temperature Using a Pulsed Laser Doping Method." Applied Physics Letters. 67. 2052-2056 (1995)

[Publications] Z.Song: "X-ray Photoelectron Spectroscopy and Atomic Force Microscopy Surface Study of GaAa (100) Cleaning Procedures." Journal of Vacuum Science and Technology B. 13. 77-82 (1995)

[Publications] S.Nishigaki: "A Metastable Deexcitation Spectroscopy Study on the Oxygenation of Alkalated Ge (001) Surfaces." Surface Science. (印刷中). (1996)

[Publications] Motohiro Iwami: "Soft X-Ray Emission Spectroscopy : Valence Band Electronic Structures of Silicides and Nondestructive Depth Profiling,Metal-Semiconductor Interfaces" Ohmsha, 157-169 (1995)

岩見基弘岡山大学, 理学部, 教授 (80029123)