1995 Fiscal Year Annual Research Report
新しい薄膜技術(エクリプス・レーザー堆積法)の樹立と超低損失光回路作製への応用
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07555101
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Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
小林 猛 大阪大学, 基礎工学部, 教授 (80153617)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
野元 克彦 シャープエネルギー変換研究所, 係長(研究員)
山本 義弘 シャープエネルギー変換研究所, 課長(研究員)
富田 孝司 シャープエネルギー変換研究所, 部長(研究員)
藤井 龍彦 大阪大学, 基礎工学部, 助手 (40238530)
作田 健 大阪大学, 基礎工学部, 講師 (70221273)
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| Keywords | レーザーアブレーション / エキシマ・レーザー / 光回路 / PLD / エピタキシャル成長 / 酸化物薄膜 / ヘテロ構造 |
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| Research Abstract |
当研究代表者のグループにより創案された新しいレーザーアブレーション技術"エクリプスPLD法"の実用に向けて数々の改善や、さらなる着想の導入を図った。対象とした酸化物材料に強誘電体、超伝導体、電気光学物質を選び、各種のヘテロ接合の可能性を明らかにしてきた。
エクリプス法の特徴は、レーザープルームの軸上に小さな遮蔽板をおくことであり、この遮蔽板が飛行粒子の質量フィルターとして作用することから、問題のドロップレットを完全解決できることを特徴にしている。
本年度は計算機シミュレーションの開発により、粒子の飛行状態を机上で求め、遮蔽板のサイズや配置する位置の最適設計も併せて行った。この設計の精度について、プルームの観察結果と対比することにより大まかな結論をえた。今後の研究に十分活用できるだけの精度を持っていることが実証された訳である。
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[Publications] 小林猛: "粒子拡散を利用する新しいレーザーアブレーション薄膜形成(エクリプス法)" レーザー研究. 23. 380-388 (1995)
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[Publications] 立木実: "新しいレーザーアブレーション法(エクリプスPLD法)" O Plus E. 189. 61-66 (1995)
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[Publications] Minoru Tachiki: "Heteroepitaxial Growth of SrBiTiO/BiSrCuO Structure by ArF Excimer Laser Ablation" Jpn.J.Appl.Phys.34. L1145-L1147 (1995)
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[Publications] Shingo Tomohisa: "Morphological Study of Epitaxial YBCO Films Grown by Eclipse Deposition" Int.Super.Elec.Conf. 453-455 (1995)
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[Publications] Minoru Tachiki: "A Novel Heterojunction of SrBiTiO/BiSrCsCuO for MIS Application" Int.Super.Elec.Conf. 246-248 (1995)
