1995 Fiscal Year Annual Research Report
紫外光照射による気体の励起反応を援用した窒化ケイ素セラミックスの仕上面創成の研究
| Project/Area Number |
07555361
|
|---|
| Research Category |
Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
|
| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
|---|
Principal Investigator |
戸倉 和 東京工業大学, 工学部, 助教授 (10016628)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
奥住 文徳 東京工業大学, 工学部, 助手 (40260533)
平田 敦 東京工業大学, 工学部, 助手 (50242277)
|
|---|
| Keywords | セラミックス / 窒化ケイ素 / 紫外光 / 励起反応 / 光援用加工 / 仕上面創成 |
|---|
| Research Abstract |
本研究は,窒化ケイ素セラミックスの表面からわずかの深さの層のみを酸化ケイ素に変えて,その層を除去することで難加工性を改善しようとするものである.この考えに基づく仕上装置を試作するとともに,雰囲気等の仕上条件の検討を重ねて最適な仕上条件を検討していくが,光援用加工への新しい道を開くことも大きな課題である.そこで今年度は,紫外光照射に対応でき,その際の雰囲気を自由に調製できる容器を備えた仕上加工機の設計・製作を行った.加工物の回転には,容器外部に備えたモータの回転力を磁性流体シールを介して伝える.真空容器には外部の流量計で計測したガスを導入できる.紫外光照射を実現するため,容器の各所にレーザ光導入のための窓を用意してある.容器は油回転ポンプにより10^<-3>Torrまで真空排気できることを確認した.この容器を使用して,窒化ケイ素,アルミナ等の各種セラミックスに紫外光を照射した場合の表面変化を明らかにすることができた.すなわち照射エネルギが小さく表面変化が認められない場合でも表面酸化が起こること,これよりわずかに大きいエネルギで照射すると選択的な除去が進行すること,さらにエネルギを大きくすると表面を一様に除去できること,がわかった.これと平行して,設備備品として購入した純水製造装置を,溶存ガスの種類と溶存量を制御できるように改造し,来年度の研究に備えることができた.
|
