1995 Fiscal Year Annual Research Report
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07651011
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
鈴木 栄一 東京工業大学, 工学部, 助教授 (90183417)
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| Keywords | ケイ素 / 直接合成 / アルコキシシラン |
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| Research Abstract |
1.トリメトキシシラン直接合成における反応経路の解明
金属ケイ素とメタノールとの反応では,主生成物であるトリメトキシシランが一次生成物であって,副生成物のテトラメトキシシランはトリメトキシシランがメタノールと反応することによって生成することを研究代表者らはすでに見出している。このトリメトキシシランの生成経路については,反応中の金属ケイ素表面にはシリレン種が存在しこれが反応に関与しているのではないかとの予備的な結果を得ている。そこで,このシリレン種を捕捉するためにメタノールに同伴させるエチレンの圧力を上げた実験を行なうために,これまでの常圧下での流通系反応装置ではなく,高圧流通系反応装置を用いて実験を行なった。この結果,ケイ素-炭素結合をもつ化合物が生成することを明らかになり,金属ケイ素とメタノールとの反応においてシリレン種が反応に関与していることが明確になった。
2.非ハロゲン系触媒の探索
非ハロゲン系触媒の探索については、水酸化銅・酸化銅をはじめ,ハロゲンを含まない銅化合物,ならびに銀化合物などの銅以外の化合物について触媒活性発現の可能性を調べた。この結果,酢酸銅(ll)が最も有効な触媒となることが明らかになった。
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