1995 Fiscal Year Annual Research Report
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07672225
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| Research Category |
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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| Research Institution | Nagasaki University |
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Principal Investigator |
高木 興氏 長崎大学, 歯学部, 教授 (80005090)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
稲葉 大輔 長崎大学, 歯学部, 助教授 (90146085)
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| Keywords | レーザー / 小窩裂溝 / 齲蝕予防 / フッ素 / 脱灰 |
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| Research Abstract |
ヒト抜去小臼歯のエナメル質表層を研磨したのち、幅約200μm、深さ約1mmのU字型裂溝を形成、37℃で0.1M乳酸ゲル(1wt% CM含有)を作用させ人工的に初期齲蝕を形成した(初期脱灰)。これを以下の5群に分けて処理を行った。
1.2%NaF溶液を4分間作用。
2.2%NaF溶液を400μlを塗布した状態でエキシマレーザーを86mJ/cm^2で照射。
3.2%NaF溶液なしでKrFエキシマレーザーを86mJ/cm^2で照射。
4.Nd-YAGレーザーをスリット面積0.16cm^2にて16mJ/pulseで100shot照射。
5.未処理。
処理後の試料は再度0.1M乳酸ゲル(6wt% CMC含有、pH=5.0)に3週間浸漬した(耐酸性試験)。現在、初期脱灰後および耐酸性試験後の裂溝内壁におけるミネラル濃度分布の変化をマイクロラジオグラフィにて評価中である。また、口腔内実験の予備的成績を得る目的で、脱灰後の試料を義歯装着者の口腔内に1か月保持し、脱灰、再石灰化の進行程度についても評価を進めている。
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