1995 Fiscal Year Annual Research Report
偏光光化学によるハロゲン化銀含有ガラス中の折出銀微粒子の異方性制御
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07805033
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Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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| Research Institution | Tokyo Metropolitan University |
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Principal Investigator |
西川 宏之 東京都立大学, 工学部, 助手 (40247226)
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| Keywords | 偏光 / ガラス / 光化学 / フォトルミネッセンス / 電子スピン共鳴 / 異方性 / エキシマレーザ / アンジュレータ光 |
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| Research Abstract |
アンジュレータ光を利用した照射実験を平成7年2月13-18日および8年2月12日-17日、分子科学研究所UVSOR BL3A1ラインにて行った。ゲルマニウムドープシリカガラスに36eV光の偏光照射を行い,フォトルミネッセンス測定および電子スピン共鳴の測定を行った。照射時の光化学反応をモニターするために、3.1eVおよび4.2eVにおけるフォトルミネッセンスを観測したところ,フォトルミネッセンスの減衰は拡張指数関数的であり,主として化学反応が酸素空孔などの欠陥サイトにおいて生じていることが確認された。アンジュレータ光照射試料の電子スピン共鳴の測定を行った結果,ゲルマニウムE'中心が観測されたが,その照射光の偏光方向に対する異方性は観測されなかった。
エキシマレーザ照射実験の準備段階として、実験試料は光学的に良質のハロゲン化銀含有ガラスを入手した。光照射実験装置として、エキシマレーザにグランレーザープリズムを組み合わせた偏光照射装置を構築した。さらに,光学的測定装置として,グラントムソンプリズム,キセノン分光光源,および分光器からなる異方性評価装置を作製した。
また,ガラスへのエキシマレーザ・放射線照射効果について,真空紫外分光および電子スピン共鳴により,その評価を行った。その結果,特に,エキシマレーザ照射においては2光子過程により生じた電子・正孔対の無輻射緩和過程が常磁性中心の生成において支配的な影響をもつことが明らかとなった。また、シリカガラスへの大線量^<60>Coγ線照射によりシリコン微粒子が生成することを確認した。
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