1997 Fiscal Year Annual Research Report
| Project/Area Number |
08044148
|
|---|
| Research Institution | Osaka University |
|---|
Principal Investigator |
高井 幹夫 大阪大学, 極限科学研究センター, 教授 (90142306)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
LOTHAR Frey フラウンホーファ集積回路電子素子技術研究所, 部長
HEINER Rysse フラウンホーファ集積回路電子素子技術研究所, 所長, 教授
柳沢 淳一 大阪大学, 大学院・基礎工学研究科, 講師 (60239803)
弓場 愛彦 大阪大学, 大学院・基礎工学研究科, 助教授 (30144447)
|
|---|
| Keywords | イオンマイクロプローブ / 集束イオンビーム / TOF-SIMS / ナノファブリケーション / ナノメートル3次元分析 / 電界放射電子源 / プロセス誘起欠陥 / ナノ構造 |
|---|
| Research Abstract |
1.日本側研究者がドイツの相手側研究所へ出張し、双方の昨年度の研究実績に関し情報交換した。ドイツ側研究所においては、相手側で昨年度研究された集束イオンビーム(FIB)クロスセクションニング、TOF-SIMS、SEM/TEM等の進捗状況、現状の問題点について検討を行い、共通試料として、FIBによる局所物理スパッタリングと反応性FIBエッチングによるものを作成した。さらに、ナノファブリケーション技術として有望な電子およびイオンビーム誘起化学プロセスを用いた電界放射電子源のための金属堆積やマスクレス加工を用いた試料の作製を行った。
2.同一構造試料の基礎測定を双方で行った。大阪大学では、ナノ構造作製時のFIBプロセス誘起欠陥および加工周辺部のビームプロセス汚染に関する非破壊分析を80nmの精度で行い、ドイツ側ではTOFSIMS等を用いた破壊検査による分析を行い、双方の結果を国際会議にて発表した。さらに、ドイツ側と共同でプロセスを行ったナノ構造の電界放射電子源に関しても国際会議で発表した。
|
-
[Publications] M.Takai: "Multi-Dimensional Micro Aralysis of Semicondacter Device Strucfures Using Ion Microproke" 放射線. 23. 15-23 (1997)
-
[Publications] T.Kishimoto: "Control of Carrier Collection Efficiency in n^+P Diode with Retrograde Well and Epitaxial layers" Jpn.J.Appl.Phys.36. 3460-3462 (1997)
-
[Publications] M.Takai: "Selective Metal Deposition Using Metal-Covered Scanning Tionreling Microscope Tips" J.Microelectronic Eng.35. 353-356 (1997)
-
[Publications] T.Kishimoto: "Suppression of Ion.Induced Charge Collection Against Soft Error" Proc.of the llth Interu.Conf.on Ion Iunplantation Technology (IEEE). 9-12 (1997)
-
[Publications] F.Paszti: "Detectors for Microprobe Applicatione at Medium Ion Energy" Nucl.Iustr.and Meth.B130. 247-252 (1997)
-
[Publications] M.Takai: "Recent Application of Nucl.Microproke Techuigesy to Microectionicy" Nucl,Instr.and nethe.B130. 466-469 (1997)
-
[Publications] T.Kishimoto: "Suppression of Carrier Collection Efficiency in Diode with Retrogrodo Well and Epitoyers" Nucl,Iustr.and Meth.B130. 524-527 (1997)
-
[Publications] Y.K.Park: "Microanalysis of Submicron Patterned WSix Structure using Nicleor Microproke" Nacl,Iustr.and meth.B130. 534-538 (1997)
-
[Publications] Y.K.Park.: "Ir and Rh Silicide Formation Investigated by Microproke RBS" Nucl.Instr.and Meth.B130. 728-733 (1997)
-
[Publications] Y.K.Park: "Microanalysis of Impurity Con tomingtion in Maskiossly Etched Avea using FIB" Jpn.J.Appl.Pluys.36. 7712-7716 (1997)
-
[Publications] M.Takai: "Surface,Sfrueture,of Hydvogen terminated (100) S : by Medium Energy Ion Scateroy" Nucl.Iustr.and Meth.B(in press). (1998)
-
[Publications] Y.K.Park: "Microanalysis of Maskessly Fobricated Microstructuves using Nuclear Microproke" Nucl.Instr.and Meth.B(in press). (1998)
-
[Publications] M.Takai: "Fabrication of FEA using Focuged Ion and Electron Beam Indueed Reaction" J.Microelectronic Evy.(in press). (1998)
-
[Publications] M.Takai: "Proc.of,Atomic Loyer Charaetesizetion 97" Microavaly sis Usivy Ion Microprokes, 6 (1998)
-
[Publications] M.Takai: "Proc of the 7th Rodiative Ray Process Symp." Recent Research Activites of Ion Microproke in the World, 4 (1997)
