1996 Fiscal Year Annual Research Report
新しいナノ組織体を目指したヘテロ2官能性親-疎水ブロックポリマーの分子設計
Project/Area Number |
08246249
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Research Institution | Tokyo University of Science |
Principal Investigator |
長崎 幸夫 東京理科大学, 基礎工学部, 講師 (90198309)
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Keywords | 高分子ミセル / ヘテロテレケリックオリゴマー / ポリエチレングリコール / ポリラクチド / 親水性 / 疎水性ブロック共重合体 / 反応性高分子ミセル / 標的指向性 |
Research Abstract |
親水性高分子と疎水性高分子とを分子レベルで結合させた親水/疎水型のブロックコポリマーから成る高分子は水中において自己組織化し、高分子ミセルあるいはナノスフィアーを形成する。最近、この様にして得られた高分子ミセルを薬物キャリヤ-として用いる試みが成され、注目されつつある。しかしながら従来法による親水/疎水型ブロックコポリマーの合成法で作製されたブロックコポリマーの末端はメトキシ基のような不活性基であり、結果として自己組織化した高分子ミセルのコロナ部分の自由末端はなんら反応に寄与することは出来ないのが現状である。そこで本申請の研究では高分子ミセルの難点を解決しうるため、表面に任意の官能基を任意の割合で導入した高分子ミセルを調製するべく、新しいヘテロテレケリック型親水/疎水ブロック共重合体の分子設計を目的とした。 本目的のブロックポリマー合成のための具体的な反応設計として、1)官能基を有する開始剤を用いたヘテロポリエチレングリコール(HeteroPEG)の合成、2)HeteroPEGの片末端から疎水性モノマーのリビング重合3)ブロックポリマーのオメガ末端への他の官能基の導入、の3点を中心に検討を進めてきた。この様にして得られるブロックポリマーは水中において自己組織体を形成するだけでなく、その表面に種々官能基を任意の割合で導入することが可能であり、また、疎水性コア部分には架橋基或いは共有結合による薬剤導入等が可能なオメガ末端が位置する新しいナノ組織体構成用材料である。本年度は上述の反応設計に基づき、PEG/PLAブロックコポリマーのPEG末端にアルデヒドを有する材料を合成し、そのミセル調製を行うことにより反応性高分子ミセルを創出することに成功した。
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[Publications] M.Iijima: "Anionic polymerization of proHEMA initiated with potassium ethanolate" Polymer. 38 (5). 1197-1202 (1997)
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[Publications] S.Cammas: "Poly (ethylene oxide-co-β-benzyl-L-aspartate) block copolymers : Influence of the poly (ethylene oxide) block on the conformation" Macromolecules. 29 (18). 3277-3231 (1996)
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[Publications] H.Ito: "Silicon-containing block copolymer membrane" Polymer. 37 (4). 633-637 (1996)
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[Publications] Y.Nagasaki: "Gas permeation properties of organosilicon-containing polystyrenes" Journal of Membrane Science. 110 (1). 91-97 (1996)
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[Publications] Y.Nagasaki: "A creation of an intelligent surface" Trends in polymer Science. 4 (2). 59-64 (1996)
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[Publications] Y.Nagasaki: "The design of a reactive surface with stimuli-sensitivity toward temperature and pH" CHEMTECH. (in press).
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[Publications] Y.Nagasaki: "Biomedical Engineering Drug Delivery Systems" Springer, 8 (1996)
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[Publications] Y.Nagasaki: "Functional Polymers for Emerging Technologies" American Chemical Society (in press),