1997 Fiscal Year Annual Research Report
高アスペクト比X線リソグラフィによる高出力マイクロアクチュエータ
| Project/Area Number |
08455046
|
|---|
| Research Institution | Ritsumeikan University |
|---|
Principal Investigator |
杉山 進 立命館大学, 理工学部, 教授 (20278493)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
田畑 修 立命館大学, 理工学部, 助教授 (20288624)
|
|---|
| Keywords | ディープX線リソグラフィー / 高アスペクト微細構造体 / シンクロトロン放射光 / X線マスク / LIGAプロセス / Ni電鋳 / マイクロアクチュエータ |
|---|
| Research Abstract |
1.高アスペクト比X線リソグラフィ(LIGAプロセス)用マスクの設計・製作
ワークステーションおよびパターン設計CADシステムを用いマスクパターン設計し、紫外線レジスト加工およびをAu電鋳加工を実施し、最適X線露光コントラストを検討し、厚さ2μmのSiC薄膜メンブレン上に厚さ5μmのAuをX線吸収材として形成したLIGAプロセス用X線マスクの製作プロセスを確立し、試作品を完成した。本X線マスクを用い、線幅5μm、高さ200μm、アスペクト比50のPMMAレジストパターンのX線露光・現像加工およびNi電鋳を行いNiマイクロ構造体を製作することができた。
2.半導体プロセス技術とLIGAプロセスを融合した3次元マイクロマシニング技術の検討
LIGAプロセス用X線マスクの設計・製造技術、および96年度より継続実施しているLIGAプロセスの各種プロセス研究を基に、Si基板上犠牲層導電膜を形成し、その上にPMMAレジストを形成し、X線露光・現像加工およびNi電鋳を行い、ギャップ2μm、高さ100μmのNi製静電マイクロアクチュエータの試作を行った。その結果アスペクト比50の高出力金属マイクロアクチュエータの製作見通しを得た。犠牲層エッチングが今後の課題である。
|
-
[Publications] 保坂誠, 張延平, 上野洋, 井上泰伸, 杉山進: "小型ビームラインを用いたPMMAの高アスペクト比X線リソグラフィーの検討" 立命館大学理工学研究所紀要. No.5. 155-162 (1997)
-
[Publications] 上野洋, 保坂誠, 張延平, 田畑修, 杉山進: "LIGAプロセスを用いた高アスペクト比マイクロマシン製作の検討" 日本機械学会ロボティクス・メカトロニクス講演会 '97講演論文集. Vol.A. 101-102 (1997)
-
[Publications] S.Sugiyama, Y.Zhang, M.Hosaka, H.Ueno, O.Tabata, R.Maeda: "Study on Fabrication of High Aspect Ratio MEMS Microparts Using a Compact SR Beamline" Books of Abstrocts of High Aspect Ratio Micro Structure Technology. (1997)
-
[Publications] H.Ueno, M.Hosaka, Y.Zhang, O.Tabata, S.Konishi, S.Sugiyama: "Study on Fabrication of High Aspect Ratio Microparts Using the LIGA Process" Proceeding of the 1997 International Symposium on Micromechatronics and Human Science. 49-54 (1997)
-
[Publications] 上野洋, 保坂誠, 田畑修, 小西聡, 杉山進: "SiCメンブレンを用いたLIGAプロセス用X線マスクの製作" 平成10年電気学会全国大会予稿集. (1998)
