1997 Fiscal Year Annual Research Report
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08455425
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| Research Institution | Toyohashi University of Technology |
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Principal Investigator |
西山 久雄 豊橋技術科学大学, 工学部, 教授 (40135421)
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| Keywords | 不斉合成 / ルテニウム錯体 / 立体選択性 / 酸化反応 / 窒素配位子 |
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| Research Abstract |
近年の錯体触媒開発では,反応を効率的かつ選択的に推進する遷移金属触媒の金属周りを飾る配位分子の設計に大きく依存しておりその重要性が増していることが分かる.全く新しい窒素系配位子の設計と合成が望まれ,ならびに目的の触媒反応の検討が必要である.
今回開発した置換Pybox配位子のさらなる反応と立体選択的の効率化を検討している。特に不斉シクロプロパン化における新しい修飾剤としての配位子の合理的設計に取り組んだところ,シングルキラル配位子による高選択的シクロプロパン化反応を発見した.さらにその中間体であるカルベン錯体の単離に成功した.
一方これまでに開発した窒素系配位子Pyboxを用いて全く新規な錯体Ru(Pydic)を創案かつ合成し,酸化剤との組合わせによりオレフィンのエポキシ化能があること,さらに不斉誘導を持ちあわせることを発見した.特に,いままで金属触媒の酸化剤として利用されたことのないヨードベンゼンジアセテートを用い触媒効率と不斉誘導ともに有効であることを見いだした.従来では,不斉誘導が難しいといわれたトランスオレフィンの不斉エポキシ化で74%光学収率に到達した.錯体のX線構造解析にも成功している.さらにビピリジン錯体の合成を同時に成功した.この錯体は,空気およびブチルハイドロペルオキシドによるオレフィンのエポキシ化に活性をみせた.元素分析より組成解析を行った.種々のアルコールなどの酸化反応への応用を検討している.
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Research Products
(1 results)
