高速原子線を用いたナノ・ファブリケーション・センタの開発

1997 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 08555064
• Research Institution: The University of Tokyo
• Principal Investigator: 中尾 政之 東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教授 (90242007)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 畑村 洋太郎 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (40010863)
• Keywords: ドライエッチング / 高速原子線 / ナノファブリケーションセンタ / マイクロマシン / ペンシル形ソース / 蒸着 / 半導体レーザ

Research Abstract

本研究は、ペンシル形の高速原子線ソースや半導体レーザを被加工物のまわりに配して、ナノメータオーダの成膜・除去・改質を3次元的に行うシステムの構築を目的とする。ペンシル形の高速原子線ソースとして、直径10mm長60mmのガラス管を用いて、管外に電極を配したものを用いた。陰極には直径50μmの穴をあけて、被加工物に直径50μmだけ加工できるようにした。ここでは蒸着用の発熱体をガラス管に入れて亜鉛箔を蒸発させ、亜鉛ガスをアルゴンの高速原子線で押し出し、直径0.1μmのクラスタが堆積したような亜鉛膜を被加工物上に成膜できた。また、ペンシル形の出力1.6Wの半導体レーザを用いて、直径100μmの錫・銀半田ボールを1Torr以上の真空中で溶かして、ステンレスや金の微細構造物の半田付けができた。

Research Products

• [Publications] 中尾政之, 村上彰啓 他: "ペンシル形半導体レーザを用いた微細半田付け技術の開発" 日本機械学会1998年度通常総会講演論文集. (印刷中). (1998)
• [Publications] 中尾政之, 平山博士 他: "局部成膜作業のためのペンシル形FABアシスト蒸着ソースの開発" 日本機械学会1998年度通常総会講演論文集. (印刷中). (1998)
• [Publications] M.Nakao, K.Tsuchiya 他: "Microwork Transfer System in Nano-Manufacturing world" Proc.of SPIE'97. vol2906(印刷中). (1997)