1997 Fiscal Year Annual Research Report
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09554036
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| Research Institution | Osaka Prefecture University |
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Principal Investigator |
水野 一彦 大阪府立大学, 工学部, 教授 (10109879)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
飯沼 武彦 日新電機株式会社, 電力システム研究開発部, 主席研究員
玉井 聡行 大阪市立工業研究所, 工業化学課, 研究員
前多 肇 大阪府立大学, 工学部, 助手 (40295720)
松村 昇 大阪府立大学, 工学部, 助手 (40125274)
杉本 晃 大阪府立大学, 工学部, 助教授 (00081323)
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| Keywords | 14族元素 / 光応答性機能物質 / 光応答性機能高分子化合物 / スピロ化合物 / π-π相互作用 / ポリ(4-トリメチルシリルメチルスチレン) / カルボキシル基生成 / パタ-ニング |
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| Research Abstract |
14族元素を含む光応答性機能物質および光応答性機能高分子化合物の開発を目的として、14族元素をスピロ原子とするスピロ型化合物ならびに14族元素を側鎖を含むポリスチレン誘導体を合成し、その光物理的および光化学的特性について検討し、以下の知見を得た。
1.スピロ型に固定した2つの芳香環の軌道相互作用におけるスピロ原子の役割を明らかにするため、ケイ素、ゲルマニウムなどの14族元素をスピロ原子とする芳香族化合物およびその関連化合物を合成し、それらの物理的および化学的特性について比較検討した。その結果、UVスペクトル、蛍光スペクトル、ならびに蛍光寿命の測定から、2つの芳香環がともにベンゼン環およびナフタレン環である場合、励起状態において2つの芳香環は直交しており、互いに相互作用していないことが明らかとなった。
2.ポリ(4-トリメチルシリルメチルスチレン)(RTMSMS)フィルムへの254nmの紫外光照射を行ったところ、トリメチルシリル基の炭素-ケイ素結合切断によりアリールメチルラジカルが発生し、フィルム表面では酸素酸化反応によるカルボキシル基生成が、フィルム内部では架橋反応が進行した。また、PTMSMSフィルムをフォトマスクを通じて光照射後、ロ-ダミン6Gによる染色もしくはキシレンによる現像を行ったところ、それぞれポジ型およびネガ型のパターンが数マイクロメートルの空間分解能で形成することが明らかとなった。
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Research Products
(2 results)
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[Publications] Nobuyuki Ichinose: "Nonlinear Laser Intensity Dependence of the Formation of Carboxylic Acid Groups at the Surface of Polymer Films : The Effect of Coupling of Radical Intermediates." langmuir. 13・10. 2603-2605 (1997)
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[Publications] Toshiyuki Tamai: "Patterning of SnO_2 Thin Films by Combination of Lithographic Photoirradiation and Pyrolysis of an Organotin Polymer." Chem.Mater.9・12. 2674-2675 (1997)
