光応答性機能物質の開発とその応用

1999 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 09554036
• Research Institution: OSAKA PREFECTURE UNIVERSITY
• Principal Investigator: 水野 一彦 大阪府立大学, 工学部, 教授 (10109879)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 前田 肇 大阪府立大学, 工学部, 助手 (40295720) ; 松村 昇 大阪府立大学, 工学部, 講師 (40125274) ; 杉本 晃 大阪府立大学, 工学部, 助教授 (00081323) ; 飯沼 武彦 日新電機株式会社, 電力システム開発部, 主席研究員 ; 玉井 聡行 大阪市立工業研究所, 工業化学課, 研究員
• Keywords: 14族元素 / 光応答性機能物質 / 光応答性機能高分子化合物 / スピロ化合物 / π-π相互作用 / ポリ(4-トリメチルシリルメチルスチレン) / カルボキシル基生成 / パターニング

Research Abstract

14族元素を含む光応答性機能物質および光応答性機能高分子化合物の開発を目的として、14族元素をスピロ原子とするスピロ型化合物ならびに14族元素を側鎖にもつポリスチレン誘導体を合成し、その光物理的および光化学的特性について検討し、以下の知見を得た。
1.スピロ型に固定した2つの芳香環の軌道相互作用におけるスピロ原子の役割りを明らかにするため、ケイ素、ゲルマニウムをスピロ原子とする芳香族化合物ならびにその関連化合物を合成し、それらの物理的および化学的特性について比較検討した。その結果、UVスペクトル、蛍光スペクトル、X線構造解析の結果から2つの芳香環は完全に直交しており、お互いに相互作用していないことが明らかになった。
2.p-位にトリメチルシリルメチル基をもつポリスチレンのフイルムにフォトマスクを通してレーザー光を照射すると、数マイクロメートルの空間分解能でパターンがフィルム表面に形成されることがわかった。また、照射後のフィルムをキシレンにより現像するとポリマーの不溶化によりネガ型パターンが形成された。
3.ケイ素の代わりにスズで置換されたポリマーを用いて同様にレーザー光照射で得られるネガ型パターンを空気中、500℃で加熱処理すると、SnO_2薄膜のパターンが得られることが明らかになった。

Research Products

• [Publications] Akira Sugimoto: "Thermally Unstable 5-(9-Anthrylmethyl)-10-methyl-5,10-dihydrophenazine"J. Chem. Res.(S). 1999. 72-73 (1999)
• [Publications] Akira Sugimoto: "Successive Electron Transfer Reaction of Lithium Salt of Methyl-5,10- dihydrophenazine Anion with 4-Nitrophenethyl Bromide via 4-Nitrostyrene"J. Heterocyclic Chem.. 36. 849-856 (1999)
• [Publications] Akira Sugimoto: "Hydrobromic Acid-Dimethyl Sulfoxide eagent for Dealkylation of 5,10-Dialkyl-5,10-dihydrophenazines: Synthesis of 10-Alkyl-2(10H)-phenazines"J. Heterocyclic Chem.. 36. 1057-1064 (1999)
• [Publications] Toshiyuki Tamai: "Photochemical Oxygenation and Crosslinking of Poly(4-trimethylsilylmethyl-styrene) Thin Film by UV Irradiation"Macromolecules. 33(印刷中). (2000)
• [Publications] Kazuhiko Mizuno: "Advances in Electron Transfer Chemistry VI"JAI Press. 165 (1999)