1998 Fiscal Year Annual Research Report
プラズマ環境STMの開発とそのプラズマ材料表面プロセス原子スケール制御への応用
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09555215
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
寺嶋 和夫 東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教授 (30176911)
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| Keywords | プラズマ環境 / STM / プラズマ表面 / エッチング |
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| Research Abstract |
本研究は、世界に先駆け、
(1) 低圧プラズマ環境中で作動する走査プローブ顕微鏡(STM:scanning tunneling microscope)の開発、
(2) そのラズマ材料表面プロセスの原子オーダー研究"への応用。を目指すものであり、
今年度の研究実績は以下の通りである。
(A) プラズマ環境中で作動する走査式トンネル顕微鏡/分光装置の高度安定化
従来の装置を踏まえ、物性研究用のプラズマ環境中で安定的に作動する走査式トンネル顕微鏡/分光(プラズマSTM/STS)の開発を行った。特に、STS測定モードを新たに付け加えるため、プラズマからのプラズマポテンシャル、電流ノイズ対策もかねた、耐高圧低ノイズ用計測回路への変更を行うとともに、プラズマによるピエゾ系への影響(経時変化)の低減を目指し、ピエゾパートの市も告を新たに設計した。
(B) プラズマー材料個体表面ナノスケールその場観察
上記のプラズマSTM/STSを用い、HOPGおよびSrTiO_3のプラズマエッチング過程の動的・静的ナノ構造解析/電子状態計測を行い装置動作の安定化を達成した。原子構造も得られた。
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[Publications] K.Terashima: "Scanning tunneling microscopy operating under a plasma ehuironmene" Thin Solid Films. (印刷中). (1999)
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[Publications] K.Terashima: "HIGH RATE DEPOSITION OF THICK EPITAXIAL FILMS BY THERMAL PLASMA FLASH DEPOSITION" Pure and Applied Chemistry. 70/6. 1193-1197 (1998)
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[Publications] Y.Takamura: "High RATE DEPOSITION OF YBCO FILMS BY HOT CLUSTER EPITAXY" J.Appl.Phys.84/9. 5084-5088 (1998)
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[Publications] 服部 伴之: "ホットクラスターエピタキシーによる高温超伝導体YBCO厚膜作製" 日本金属学会誌. 63/1. 68-73 (1999)
