超伝導・圧電体積層膜における磁束フローの超音波励起

1997 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 09650365
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Research Institution: Kagoshima University
• Principal Investigator: 堀江 雄二 鹿児島大学, 工学部, 助教授 (50201760)
• Keywords: 酸化物高温超伝導体 / 磁束ピン止め / 超音波 / 薄膜 / 磁束フロー / 圧電膜

Research Abstract

本年度は,2年計画の本研究課題の1年目であり,in situで積層膜の連続作製が可能な新しいレーザーアブレーション装置の作製と,それによる積層膜の作製手法の確立に力点を置く計画であった.新しいレーザーアブレーション装置の設計を7月までに終え,製作にとりかかったが,予想以上に時間がかかり,計画の変更を余儀なくされた.本年度の成果を以下に列挙する.
1.すでに得られているDCスパッタリング法によって作製したYBaCuO薄膜と,焼結法によって得られたバルク試料について,超音波励起磁束フロー起電力を測定し,熱励起型の磁束フローモデルによって解析を行った.その結果,バルク試料の場合はそのモデルでほぼ説明できるのに対し,薄膜試料では低磁場になるに従って,理論値からのずれを生じることがわかった.そのずれに対する考察を行い,積層膜にした場合の磁束フロー起電力測定の問題点を指摘した.この研究成果は現在投稿準備中である.
2.磁束に対する熱励起の影響が最も顕著に現れるBiSrCaCuO超伝導体の単結晶薄膜の作製条件の最適化を行った.SrTiO3単結晶基板上にバッファ層を挿入することによって,転移幅の狭い良質な薄膜の作製に成功した.この研究成果についても,現在投稿準備中である.
3.現有のレーザーアブレーション装置で圧電体単層膜作製の予備実験を行った.薄膜作製時の酸素圧とアニール条件を変化させることにより,結晶構造等がどのように変化するかを調べた.