1998 Fiscal Year Annual Research Report
植物根のアルミニウムイオンによる伸長阻害の初期プロセスの解明-根端細胞におけるアルミニウム結合サイトの決定
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09760051
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
横田 聡 東北大学, 農学部, 助手 (60220555)
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| Keywords | アルミニウムイオン / アルファルファ / 酸性土壌 / 根端 / PIXE |
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| Research Abstract |
アルミニウムイオンによる根の伸長阻害は処理開始後,数時間で発生する。このときに特に強い阻害を受けるのは根端の伸長域細胞である。
しかしその細胞群におけるアルミニウムイオンの伸長阻害機構は不明であった。そこで本研究では根端細胞群の個々の細胞がどのような過程でその伸長速度を低下させられるのか,またその時,アルミニウムイオンはどの細胞に分布するかを調べることとした。材料としてはアルミニウムイオンに感受性の高いアルファルファを用いた。
まず,アルミニウム処理中の細胞の伸長を経時的に追跡したところ,伸長域の細胞それぞれの阻害の受け方は異なっていたが,長い時間の後にはほぼすべての細胞の伸長が停止した。同時に細胞の生理活性を蛍光色素FUN-1にて調べたところ,一時的な活性上昇の後,減衰していくこと,またそれは個々の細胞にばらつきがみられることがわかった。
次に個々の細胞単位でのアルミニウムの分布と伸長阻害の関係を大気Micro-PIXEにて検討したが明確な分布像を得ることはできなかった。
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