1998 Fiscal Year Annual Research Report
Project/Area Number |
10044167
|
Research Category |
Grant-in-Aid for international Scientific Research
|
Section | Joint Research . |
Research Institution | University of Miyazaki |
Principal Investigator |
佐々木 亘 宮崎大学, 工学部, 教授 (30081300)
|
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
SAUERBREY Ro FriedrichーSchillerーUniversitat Jena, Inst, Professor
河仲 準一 宮崎大学, 工学部, 助手 (50264362)
横谷 篤至 宮崎大学, 工学部, 助教授 (00183989)
黒澤 宏 宮崎大学, 工学部, 教授 (80109892)
窪寺 昌一 宮崎大学, 工学部, 助教授 (00264359)
|
Keywords | 真空紫外光 / コヒーレント光 / 高強度電子ビーム装置 / 長短パルスレーザー / 非線形結晶 |
Research Abstract |
平成10年度には下記の点を明らかにした。 (1)非線形波長変換法(多波長混合、高調波発生)による真空紫外域超短パルスコヒーレント光発生に関する理論解析、実験を行った。この結果、CLBO結晶により高効率な真空紫外光発生に成功した。 (2)発生した超短パルス真空紫外光の高出力化、高品質化に関する理論解析、実験を行った。高出力化としてTi:sapphire結晶によるマルチパス増幅を行い、既存の数十倍の出力が得られた。 (3)超短パルス真空紫外光増幅に関する理論モデルの開発、妥当性の検討を既存の短パルス紫外レーザーの結果をもとに行った。既存レーザーとして短パルスArFエキシマレーザー(193 nm)を使用した結果、ナノ秒における増幅は問題ないことが明らかとなった。 (4)上述の結果に基づいた超短パルス用の増幅器の最適設計を行った。これにより、真空中での光学系の制御がはじめて試みられることとなった。 (5)超短パルス真空紫外レーザーの最適励起条件の決定のためのキネティクスの理論解析を行った。(6)この理論解析結果をもとに大出力化のための、電子ビーム励起装置を用いた実験装置の製作を行った。電子ビーム装置は最大700kV、パルス幅90nsの出力が可能である。
|
Research Products
(3 results)
-
[Publications] S.Kubodera 他: "Kr excimers produced by soft x rays emitted from a laser-produced plasma" Applied Physics Letters. 73巻、11号. 1463-1465 (1998)
-
[Publications] 河仲 準二 他: "放電励起希ガスエキシマレーザーの基礎過程" レーザー学会研究会報告 レーザー応用. RTM-98-41. 35-40 (1998)
-
[Publications] Wataru Sasaki 他: "The state of the art of rare gas excimer lasers and lamps as a light source for giga-bit lithography" J.Photopolymer Sci.Tech.11巻、2号. 361-366 (1998)