1998 Fiscal Year Annual Research Report
水素吸蔵合金膜の溶融塩中からの直接電解製造とその特性
Project/Area Number |
10450280
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Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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Research Institution | Nagoya University |
Principal Investigator |
興戸 正純 名古屋大学, 理工科学総合研究センター, 教授 (50126843)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
松本 功 松下電池工業, 技術研究所, 主幹研究員
魏 大維 名古屋大学, 理工科学総合研究センター, 非常勤研究員
黒田 健介 名古屋大学, 工学研究科, 助手 (00283408)
市野 良一 名古屋大学, 工学研究科, 講師 (70223104)
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Keywords | 水素吸蔵合金 / 溶融塩電解 / LaNi5 / MgzNi / 金属間化合物 |
Research Abstract |
溶融塩電解法を用いて,La,MgをNi基板上に電析させ,基板と電析金属を反応させることにより,膜状の水素吸蔵合金LaNi_5,Mg_2Niを生成させた.さらに,これらのLa-Ni系,Mg-Ni系合金について,電気化学的手法による合金化機構の解明を試みた. La-Ni系,Mg-Ni系ともに,電解条件により,生成物が異ることがわかった.Mg-Ni系の場合,目的とする水素吸蔵合金の融点よりも高い温度で電解を行った場合には,目的金属(Mg_2Ni)よりもさらに融点の高い合金(MgNi_2)が優先的に得られることがわかった.融点よりも低い温度で電解した場合,主に,(MgNi_2)が得られた.また,断面分析した結果,合金が基板表面から電析物相方向に生成していくことが明らかとなった.これらの挙動は,合金化機構に,基板と電析物との拡散が関係しているためと考えられる. 生成合金と電位との関係を調べたところ,La-Ni系では,1023Kで電析直後,試料を溶融塩中に浸漬保持した状態での電位の経時変化は,時間の経過とともに高くなり,電析前のNiの自然浸漬電位付近に達するまでに5カ所のプラトー電位が確認された.さらにMg-Ni系でも,同じ条件で電析したもので同様な電位変化が見られ,電析前のNiの自然浸漬電位付近に達するまでのプラトー電位は3カ所であった.このプラトー電位は合金(金属間化合物)の平衡電位に相当することを示した.
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