1998 Fiscal Year Annual Research Report
ミラー磁界型同軸ECRプラズマによる細管内壁コーティング法に関する研究
| Project/Area Number |
10558066
|
|---|
| Research Institution | Nagasaki University |
|---|
Principal Investigator |
藤山 寛 長崎大学, 工学部, 教授 (20112310)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
桑原 創 日新電機株式会社, 知的財産部, 次長
|
|---|
| Keywords | プラズマプロセス / スパッタリング / ECRプラズマ / 細管コーティング / ミラー磁界 / 反応性スパッタリング / 機能性薄膜 / PVD |
|---|
| Research Abstract |
本研究は,低気圧短ギャップでの高密度プラズマ生成技術である同軸型電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマ源を用いた長細管内壁へのスパッタコーティング技術の実用化をめざすもので,長細管(金属(磁性及び非磁性)及び絶縁物,内径5mm,長さ2m)への均一密着セラミックコーティングが可能な装置開発とその最適設計指針を得ることを目的としている.
平成10年度は装置の設計・製作及び基本性能のテストを行った.以下に研究成果を列記する.
1) 20個のソレノイドコイルをもつ2m長の同軸型ECRプラズマ装置を試作した.各コイル電流をパワー半導体素子(IGBT)をパソコンでスイッチングすることにより制御してECR共鳴点を軸方向に走査することによりプラズマの発生位置を軸方向に移動させる.
2) 放電用電源として周波数2.45GHz,最大出力200WのCWマイクロ波源を使用し,同軸ケーブルを通じてTEMモードで同軸円筒電極へ伝送する.同軸円筒電極は内径8mmΦ,長さ2mのアルミニウム製パイプ(基板)と直径2mmΦ,長さ2mのチタン丸棒(ターゲット)で構成した.ギャップ長は3mmである.成膜実験ではターゲットに400Vの負のDCバイアス電圧を加えた.
3) コイル2個を連続的にスイッチングして磁界配位をミラー型にし,軸方向初期電子の閉じ込めを良くして低気圧でもプラズマが生成し移動することを確認した.
|
Research Products
(2 results)
-
[Publications] Hiroshi Fujiyama and Teppei Nagano: "ECR Plasma Source with Scanning Mirror-type Magnetic Field for Inner Sputter-coating of Narrow Tube." Proc.of 6th Int.Conf.on Plasma Surface Engineering,Garmisch-Partenkirchen,1998. (1998)
-
[Publications] T.Nagano and H.Fujiyama: "Characteristics of Scanning Mirror-type Magnetic Field Coaxial ECR Plasma for Inner Coating of Slender Tubes." Proc.4th Int.on Reactive Plasmas and 16th Sympo.on Plasma Processing,EMP4.13 1998. 101-102 (1998)
