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1998 Fiscal Year Annual Research Report

反応性プラズマを用いたフラーレン誘導体の合成

Research Project

Project/Area Number 10680456
Research InstitutionShizuoka University

Principal Investigator

三重野 哲  静岡大学, 理学部・物理学科, 助教授 (50173993)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 櫻井 厚  静岡大学, 理学部, 助教授 (70021938)
Keywordsフラーレン薄膜 / フッ素化フラーレン / プラズマプロセッシング / 水素化フラーレン / フッ化炭素ガス / 反応性プラズマ / フラーレン誘導体 / フラーレンポリマー
Research Abstract

1) 小型ガラス容器を用いた平行平板型RFプラズマ反応装置を製作し、反応性ガスを用いて安定した反応性プラズマを作ることができた。(周波数13.56MHz,パワー、0-500W,CW)
2) 金属板にC_<60>膜を真空蒸着し、その試料を反応容器電極部およびガラス壁に置き、プラズマ反応処理を行った。高熱量や高イオン衝撃でC_<60>膜が昇華したり損傷を受けるため、反応に適切なRFパワー、圧力、反応時間、基板温度を実験的に求めた。その結果、RF電極を水冷すると良い反応が行える事が分かった。
3) CF_4ガスを導入しC_<60>膜のフッ素か反応を調べた。パラメーターをサーベイした実験を行い、処理膜をレーザーイオン化質量分析器で分析すると、C_<60>F_<10>-C_<60>F_<60>が膜表面で合成されていることが分かった。特に、C_<60>F_<30>-C_<60>F_<46>辺りに強いピークを持つ。この反応は基板温度に敏感であり、強いイオン照射では、膜の劣化が起きることが分かった。
4) 水素ガスを導入し、C_<60>膜の水素化反応を調べた。同様に、反応を行い、質量分析すると、条件によりC_<60>H_2-C_<60>H_<60>の連続した信号を得ることができた。この結果は燃料用水素吸蔵材料と関連して重要な意味を持つ。しかしながら、反応率はC_<60>の10%程度であり、今後、反応率の増大方法や水素化C_<60>膜の安定性について調べる必要が有る。

  • Research Products

    (4 results)

All Other

All Publications (4 results)

  • [Publications] T.Mieno: "Efficient Production of Endohedral Metallofullerenes in Repetitive Gravitation・Free Arc Discharge Using a Vertical Swing Tower" Jpn.J.Appl.Phys.Vol.37.No.6B. L761-L764 (1998)

  • [Publications] T.Mieno, D.Yamane: "Effect of Arc and Gas Conditions in Synthesis of C_<60> by an Arc Discharge" J.Plasma Fusion Res.Vol.74.No.12. 1444-1451 (1998)

  • [Publications] S.Aoyama, T.Mieno: "Effect of Gravity and Magnetic Field in Production of C_<60> by a DC Arc Discharge" Jpn.J.Appl.Phys.Vol.38,No.3A(印刷中). L267-L269 (1999)

  • [Publications] 三重野 哲(分担): "季刊化学総説44,炭素第三の同素体フラーレンの化学,第2章-2,[60]フラーレン" 学会出版センター (日本化学会編)(印刷中), (1999)

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Published: 1999-12-11   Modified: 2016-04-21  

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