2010 Fiscal Year Annual Research Report
アゾベンゼン高分子材料のフォトメカニカル機能と光記録
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10F00831
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
宍戸 厚 東京工業大学, 資源化学研究所, 准教授
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
PRIIMAGI Arri 東京工業大学, 資源化学研究所, 外国人特別研究員
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| Keywords | アゾベンゼン / 光記録 / ホログラム / 液晶 / 高分子 / フォトメカニカル |
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| Research Abstract |
研究分担者はこれまでに非共有結合型のアゾベンゼン含有高分子材料の開発と光応答性について研究を行い,従来より高い光応答性を得ることに成功している。非共有結合型のアゾベンゼン含有高分子では,分子内および分子間において従来の共有結合型と比較して適度な相関を有するシステムの構築が期待できる。具体的には非共有結合型アゾベンゼン高分子では,分子形状変化を効率よく増幅でき高性能な光運動材料およびホログラム材料の構築が可能である。そこで本研究では,非共有結合型アゾベンゼン含有高分子を主軸としたホログラム材料および光運動材料の開発を検討するとともに,新たな光デバイスの創製を目的とした。
初年度では研究分担者がこれまで開発してきた非共有結合型アゾベンゼン含有高分子材料について,研究代表者が専門とするホログラム記録と光運動材料への応用について検討を行った。研究代表者が現有する種々の設備(示差走査熱量計,紫外可視分光光度計,赤外分光光度計,ホットステージ付き偏光顕微鏡,示差走査熱量計付きX線回折装置,熱機械分析装置,アルゴンイオンレーザーなど)を活用して,アゾベンゼン含有高分子材料の基礎的光物性評価を行うとともに,フィルムを調製した。研究分担者の開発した非共有結合型アゾベンゼン高分子が液晶性を発現することを明らかにした。高い光応答性が液晶性に基づく協同現象に起因すると考察している。
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