1999 Fiscal Year Annual Research Report
分子配向を利用したケイ素-ケイ素飽和結合を有する分子の分光学的特性の解明
Project/Area Number |
11120208
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Research Institution | Gunma University |
Principal Investigator |
平塚 浩士 群馬大学, 工学部, 教授 (00016156)
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Keywords | オクタシラキュバン / α,ω-ジフェニルオリゴシラン / 電子構造 / ナノ秒レーザー光分解 / 反応中間体 / サーモクロミズム / 軌道相互作用 |
Research Abstract |
本研究では(1)オクタシラキュバンおよび(2)α,ω-ジフェニルオリゴシラン類の電子構造と光化学反応初期過程を調べることにより、Si-Si飽和結合の性質を理解することを目的として研究した。 (1)オクタ-(1,1,2-トリメチルプロピル)-オクタシラキュバンの電子構造と光化学反応中間体 標記分子の紫外・可視吸収スペクトルを測定し、半経験的分子軌道法(AM1-CI法)による計算結果と対比して各吸収帯の帰属を行った。また、ナノ秒レーザー光分解法による過渡吸収スペクトルの測定により、反応中間体が2つのSi-Si結合が同時に開裂して生じることを明らかにした。さらにこの中間体がビシクロ[1,1,0]テトラシラン型構造を部分構造として持つ化合物であることも明らかにした。 本研究結果については、現在Chem.Phys.Lett.に投稿中である。 (2)α,ω-ジフェニルオリゴシラン 1,2-ジフェニルシラン,1,3-ジフェニルトリシラン,1,4-ジフェニルテトラシラン,1,6-ジフェニルヘキサシランのサーモクロミズムを観測し、これがSi-Si結合まわりのgauche-anti配置の変化に基づくものであることを明らかにした。また、電子スペクトルをフェニル基のπMOとSi-Si主鎖部位のσ-MOの軌道相互作用の観点から解析し、Si基の増加と共にフェニル基の影響が小さくなることを明らかにした。また、ジシランとトリシランのナノ秒レーザー光分解を行い、どちらの分子でも末端のSi-Si結合が開裂してジメチルフェニルシリルラジカルとフェニルメチルシレン,1,3-シリル転位体が生成することを明らかにした。
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Research Products
(5 results)
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[Publications] 和田美紀子 ほか: "ビス(トロポロナト)ニッケル(II)の電子構造"日本化学会誌. 87-92 (1999)
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[Publications] H.Horiuchi et al.: "Laser Flash Photolysis Studies of the Photo-ring-opening Reaction of Flay-3-en-2-ol."Bull.Chem.Soc.Jpn.. 72. 2429-2435 (1999)
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[Publications] H.Hiratsuka et al.: "Nanosecond Laser Flash Photolysis and Steady-State Photolysis Studies of Benzyltrimethylsilane and Trimethylsilyldiphenylmethane."J.Phys.Chem.A. 103. 9174-9183 (1999)
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[Publications] T.Okutsu et al.: "A Laser Flash Photolysis Study on the reaction Mechanisms of Benzil with Various Amines."J.Phys.Chem.A. 104. 288-292 (2000)
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[Publications] H.Horiuchi et al.: "Photochromism of 2-Hydroxy-4'-methoxychalcone:A Nobel Photon-Mode Erasable Optical Memory System with Nondestructive Readout Ability"Chem.Lett.. 96-97 (2000)