2000 Fiscal Year Annual Research Report
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11166270
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| Research Institution | Hiroshima University |
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Principal Investigator |
岩田 末廣 広島大学, 大学院・理学研究科, 教授 (20087505)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
斉藤 昊 広島大学, 大学院・理学研究科, 教授 (00033853)
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| Keywords | 量子化学計算 / 飽和炭化水素 / イソプレン / ヒドロキシラジカル / 一酸化窒素 / オキソニウム / 水和クラスター |
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| Research Abstract |
1.OHラジカルとメタン、エタン、プロパンの反応経路を分子軌道計算によって研究した。水素原子の引き抜きに先立ち、弱い錯体形成が見いだされた。反応障壁後にも生成物形成前に安定な錯体が存在する。これら錯体は、室温における反応には寄与しないと考えられるので、遷移状態理論によって反応速度を見積もった。
2.OHラジカルとイソプレンの反応を分子軌道理論計算によって追跡した。この場合も水素原子の引き抜き反応の可能性があるが、付加反応の反応障壁が引き抜き反応の障壁より低いことが明らかになった。OHが付加したラジカルは反応性に富んでいて、酸素分子と反応する。この反応経路についても検討した結果、複数の炭素原子を攻撃する反応を考えなければいけないことが明らかになった。
3.イオン圏D領域の高層ではNO^+やO_2^+が陽イオン成分の主成分であるが、下層では水和オキソニウム(H_3O)^+(H_2O)_nになる。NO^+と水分子クラスターの反応によって水和オキソニウム(H_3O)^+(H_2O)_nが形成する。この反応およびそれに対するメタノール分子の寄与を量子化学計算によって検討した。
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[Publications] K.Okada: "Accurate potential energy and transition dipole moment curves of several electronic states of CO^+"J.Chemical Physics. 112. 1804-1808 (2000)
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[Publications] T.Tsurusawa: "Theoretical studies of the water cluster anions containing the OH{e}HO structure : energies and harmonic frequencies"1) Chemical Physics Letters. 315. 433-440 (2000)
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[Publications] K.Okada: "Ab initio MO study of A,D and third ^2Π states of CO^+,"J.Electron Spectroscopy and Related Phenomena. 108. 225-234 (2000)
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[Publications] T.Tsurusawa: "The electron-hydrogen bonds and the OH harmonic frequency shifts in water cluster complexes with a group 1 metal atom, M(H_2O)_n (M=Li and Na),"J.Chemical Physics. 315. 433-440 (2000)
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[Publications] M.J.Wojcik: "Theoretical study of multidimensional proton tunneling in the excited state of tropolone"J.Chemical Physics. 112. 6322-6328 (2000)
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[Publications] E.O.Sako: "Mechanism of ion desorption reaction of PMMA thin film induced by core excitation"J.Electron Spectroscopy and Related Phenomena. (印刷中). (2001)
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[Publications] S.Iwata: "Electronic and geometric structures of water cluster complexes with a group 1 metal atom : electron-hydrogen bond in the OH{e}HO structure"Adv.In Metal and Semiconductor Clusters. 5. 39-75 (2001)
