2000 Fiscal Year Annual Research Report
周期的構造変調層を形成したSiナノ結晶分散薄膜の電気的・光学的性質
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11650319
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| Research Institution | Kanazawa University |
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Principal Investigator |
猪熊 孝夫 金沢大学, 工学部, 助教授 (50221784)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
長谷川 誠一 金沢大学, 自然科学研究科, 教授 (10019755)
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| Keywords | シリコンナノ結晶 / 酸化物媒質 / 薄膜 / 多層構造 / 電気伝導度制御 / プラズマCVD / 発光材料 |
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| Research Abstract |
Siナノ結晶(nc-Si)をSi酸化物中に分散生成したnc-Si分散薄膜は,光励起により高効率の可視発光を呈する新しい発光材料であるが,電気伝導度が小さく電流注入による発光の実現が困難である。本研究では,発光効率の高い高抵抗層とSi-richな低抵抗層を多層化することにより,高効率発光と伝導度の向上を同時に実現することを目指した。
多層構造の形成は,プラズマCVD法によるSiOx堆積中にO_2供給量を変化させ組成に変調を与えることにより実現した。熱処理後に形成されるナノ結晶のサイズは組成に依存するため,結果として平均結晶サイズにも周期的な空間変調が与えられる。多層化により電気伝導度の向上は確認されたが,積層周期を100nm程度まで小さくしなければ多層化の効果は現れなかった。このため,昨年度の研究成果であるブラッグリフレクタ(300nm周期)による発光スペクトルの先鋭化との同時実現が課題として残った。
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