1999 Fiscal Year Annual Research Report
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11650328
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| Research Institution | University of Miyazaki |
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Principal Investigator |
横谷 篤至 宮崎大学, 工学部, 助教授 (00183989)
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| Keywords | チタン酸バリウム / レーザーアブレーション法 / エキシマレーザー / フェムト秒レーザー / 膜質の向上 |
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| Research Abstract |
光コンピューターの実用化のために必要とされる種々の光学結晶の高品質化を目的として、演算機能を有するチタン酸バリウムやその周辺に用いられるサファイア結晶、フッ化物結晶などの作製を行った。とくに本研究では、将来の高密度集積化をにらんで薄膜状の結晶材料に焦点を置き、レーザーアブレーション法などを用いて結晶のできやすい条件、不純物粒子などの混入しにくい条件、結晶組成のズレが起こりにくい条件などを模索した。レーザーとしては、従来もっとも一般的に用いられている赤外のYAGレーザーに対し、本研究では(1)短波長で数倍光子エネルギーの高いエキシマレーザー、(2)パルス幅が短く数千倍パルス先頭値が高いフェムト秒レーザーを用いることで膜質の改善が行えることを見いだした。各レーザーに対して、もっとも良質な薄膜を作製するための照射エネルギー、ターゲット基盤間距離、基板温度などを明らかにした。
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[Publications] A.Yokotani: "A new scheme for fabrication of oxide coating for organic optical materials by photo-chemical vapor deposition using an excimer lamp"Nonlinear Optics. 22. 465-468 (1999)
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[Publications] A.Yokotani: "Large second-order optical nonlinearity in thermally poled high-purity silica glass"Tec.Digest.of Com.on Laser and Electro-Optics '99. 165-166 (1999)
