2000 Fiscal Year Annual Research Report
2波長X線ビーム励起-全反射蛍光X線分析装置の開発とその分析性能の評価
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11650828
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| Research Institution | Tohoku University |
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Principal Investigator |
辻 幸一 東北大学, 金属材料研究所, 助手 (30241566)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
我妻 和明 東北大学, 金属材料研究所, 教授 (30158597)
松田 秀幸 東北大学, 金属材料研究所, 助手 (00181735)
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| Keywords | 蛍光X線分析 / 全反射X線 / 表面分析 / 薄膜分析 / 非破壊分析 |
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| Research Abstract |
平成7-8年度科研費基盤研究A(07555260)により設計・購入した大型ゴニオメーターを改造して「2波長X線ビーム励起-全反射X線分析装置」を新たに開発した。このゴニオメーターをX線発生装置(理学電機:回転対陰極型X線発生装置RU-200)のテーブルに設置し、ゴニオメーター全体を傾斜(傾斜角φ)させることにより回転対陰極型X線発生装置からの一次X線の入射角を制御した。さらに、このゴニオメーターの回転アーム(傾斜角χ)に封入式X線管を取り付けた。封入式X線管の試料への入射角χは、このアームを移動しX線管自身を動かすことにより制御した。以上の装置構成により2波長X線ビーム励起-全反射X線分析が可能となった。このゴニオメーターを使用することにより、回転対陰極型X線発生装置からのX線ビームと封入式X線管からのX線ビームとでなす角度も自由に変えることができる。研究期間中、海外出張が数回入ったこともあり、この装置の組み立てには1年半程度を要した。よって、研究期間内に分析性能の評価を充分に行うことはできなかったが、2つのX線ビーム励起により蛍光X線強度が増大することが確かめられた。研究期間終了後に本格的な分析性能の評価にむけた実験を行う予定である。
また、この研究と並行して斜出射X線測定型のEPMA分析を行うことを提案した。(斜出射電子線プローブマイクロX線分析による異物の分析法、特許出願2000-22205)斜出射X線測定により表面敏感な分析が可能となる。よって、EPMAが有する局所分析という特徴と併せると、表面・局所分析が可能となり、微粒子分析や薄膜分析に応用できることが明らかとなった。この研究は極めてユニークかつ独創的な研究であるので、これについても研究成果報告書の中で紹介することとした。
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[Publications] K.Tsuji: "Glancing-Incidence and Glancing-Takeoff X-Ray Fluorescence Analysis of Ni-GaAs Interface-Reactions"X-Ray Spectrom.. 29. 155-160 (2000)
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[Publications] Y.Hasegawa: "X-Ray Source Combined Ultrahigh-Vacuum Scanning Tunneling Microscopy for Elemental Analysis"J.Vac.Sci.Tech.B. 18. 2676-2680 (2000)
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[Publications] 辻幸一: "斜出射X線測定による微小領域の表面分析と微粒子分析"まてりあ(日本金属学会 編). 39. 586-593 (2000)
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[Publications] 辻幸一: "斜出射X線測定型の電子線プローブマイクロアナリシス"X線分析の進歩(アグネ技術センター編). 32集(印刷中). (2001)
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[Publications] K.Tsuji: "Grazing-Exit X-Ray Spectrometry for Surface and Thin-Film Analysis"Anal.Sci.. 17. 145-148 (2001)
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[Publications] K.Tsuji: "Detection Limit of Grazing-Exit Electron Probe Microanalysis(GE-EPMA) for Particles Analysis"Mikrochim.Acta.. 132. 357-360 (2000)
