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1999 Fiscal Year Annual Research Report

半導体プロセス汚染不純物元素の超高感度分析

Research Project

Project/Area Number 11694157
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

高井 幹夫  大阪大学, 極限科学研究センター, 教授 (90142306)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 柳沢 淳一  大阪大学, 大学院・基礎工学研究科, 講師 (60239803)
Keywords超先端高密度集積回路素子 / 極微量プロセス汚染元素 / イオンプローブ / 超高感度局所分析技術 / 汚染分析技術 / 局所的超高感度分析技術 / 重イオンTOF-RBS分析技術
Research Abstract

超先端高密度集積回路素子開発のための課題となっている極微量プロセス汚染元素について、これまで日本側で研究開発しているイオンプローブによる超高感度局所分析技術とドイツ側で進められているウェーファーレベルの汚染分析技術を、同一試料について相補的に用いた共同研究をすることにより、これまで不可能であった局所的超高感度分析技術を確立することを目的としている。
1.日本側研究者がドイツの相手側研究所へ出張し、双方これまでの高感度重金属分析研究実績に関し情報交換した。ドイツ側研究所においては、相手側でこれまで研究されてきているVPD-TXRF、VPD-AAS等によるウェーファーレベルの汚染分析の進捗状況、現状の問題点について、検討を行い、次世代素子に対応したプロセスとテスト構造作製のための方針を打ち合わせした。
2.ドイツから検討者を招聘し、日本で開発を行っている重イオンTOF-RBS分析技術の進捗状況、現状の問題点に関する検討を行い、ドイツ側の分析技術を相補的に組み合わせて計測するためのテスト試料構造を決定した。
3.共同研究打ち合わせによる同一試料の基礎測定を双方で行い、その結果を互いに検討した。
4.双方の分析技術および基礎測定の比較検討により、双方の技術を相補的に利用し、有機的な組合せによる研究方針をたて、双方の研究所で共通の試料の測定の感度・面内分解能の校正を行った。

  • Research Products

    (3 results)

All Other

All Publications (3 results)

  • [Publications] Y.K.Park: "Comparison of Beam-Induced Deposition using Ion Microprobe"Nucl.Instr. and Methods. B148. 25-31 (1999)

  • [Publications] Y.K.Park: "Impurity Incorporation during Beam Assisted Processing Analyzed using Nuclear Microprobe"Nucl.Instr. and Methods. B158. 487-492 (1999)

  • [Publications] Y.K.Park: "Investigation of Cu Films by Focused Ion Beam Induced Deposition Using Nuclear Microprobe"Nucl.Instr. and Methods. B158. 493-498 (1999)

URL: 

Published: 2001-10-23   Modified: 2016-04-21  

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