2000 Fiscal Year Annual Research Report
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11694157
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
高井 幹夫 大阪大学, 極限科学研究センター, 教授 (90142306)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
柳沢 淳一 大阪大学, 大学院基礎工学研究科, 講師 (60239803)
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| Keywords | 超先端高密度集積回路素子 / 極微量プロセス汚染元素 / イオンプローブ / 超高感度局所分析技術 / 汚染分析技術 / 汚染重金属元素 / TOF-RBS分析技術 / 電界放出電子源 |
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| Research Abstract |
超先端高密度集積回路素子開発のための課題となっている極微量プロセス汚染元素について、これまで日本側で研究開発しているイオンプローブによる超高感度局所分析技術とドイツ側で進められているウェーファーレベルの汚染分析技術を、同一試料について相補的に用いた共同研究をすることにより、これまで不可能であった局所的超高感度分析技術を確立することを目的としている。
1.平成11年度に得られた結果に基づいて、ドイツと日本のお互いの研究所を交互に訪問し、分析技術の検討をした。特に、ドイツ側のVPD-TXRFによるウェーファーレベルの分析結果と日本側のイオンビームによる局所分析結果の相関を、各汚染重金属元素について検討した。
2.集積回路プロセスに起因する汚染元素の特定を、同一試料の双方の分析により試みた。
3.日本側では、TOF-RBSによる局所分析と高感度分析のトレードオフを克服するための計測技術の最適化を研究した。
4.ドイツ側では、極微細MOS構造の試作を行い、日本側で局所汚染分析を行った。
5.電界放出電子源の試作プロセスによる汚染元素の特定を同一構造・同一プロセスの共通試料により双方の研究所にて行った。
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Research Products
(5 results)
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[Publications] M.Takai: "Nuclear Microprobe Analysis of Beam-Processed Miniaturized Structures by Focused Ion and Electron beams"Inst.Phys.Conf.Ser.165, Symposium 11. 165. 363-364 (2000)
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[Publications] J.Tajima: "Medium Energy Nuclear Microprobe with Enhanced Sensitivity for Semiconductor Process Analysis"Nucl.Instr.and Methods. B(in press). (2001)
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[Publications] R.Mimura: "Microprobe RBS Analysis of Localized Processed Areas by FIB Etching and Deposition"Nucl.Instr.and Methods. B(in press). (2001)
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[Publications] J.Tajima: "Development of Enhanced Depth Resolution Analysis Technique with Medium Energy Ion Scattering(MEIS)"Proc.of the 13th Intern.Conf.on Ion Implantation Technology(IEEE). (in press). (2001)
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[Publications] C.Lehrer: "Defects and Gallium-Contamination During Focused Ion Beam Micro Machining "Proc.of the 13th Intern.Conf.on Ion Implantation Technology(IEEE). (in press). (2001)
