シリカガラスにおけるエキシマレーザー支援構造緩和

1999 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 11750595
• Research Institution: Toyota Technological Institute
• Principal Investigator: 齋藤 和也 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, 講師 (20278394)
• Keywords: シリカガラス / フォトニクス / 構造緩和 / ガラス転移

Research Abstract

本研究では、申請者が見出したシリカガラスにおけるレーザー支援構造緩和の緩和機構を解明し、エキシマレーザーによる構造緩和の制御法を確立することを目的とする。エキシマレーザー支援構造緩和過程の微視的機構を解明することは、ガラス転移におけるスローダイナミクスの研究に新しい光を当てるものであり、また、広範な分野で使用されるガラス材料の機能性向上にも重要である。本研究の具体的なアウトプットとしては、耐紫外線ガラス&ファイバと超低損失ガラス開発を目標としている。
本年度の研究実績を以下に示す。
(1)エキシマレーザー支援構造緩和効果を利用して、市販のUVファイバのUV耐性を約2倍に向上させることに成功した。
(2)エキシマレーザー支援構造緩和効果の定量化をシリカガラスのパルクを用いて行った。
(3)エキシマレーザー支援構造緩和機構の解明のために、FTIRによる局所構造緩和の測定法の開発を行った。

Research Products

• [Publications] K. Saito: "Effects of pre-irradiation and themal annealing on photo induced defects creation in synthetic silica glass"Journal of Applied Physics. 86. 3497-3501 (1999)
• [Publications] K. Saito: "Improvement of VV -proof property in silica glass fibers for AnF-excimer laser applications"Optics Letters. 24. 1678-1680 (1999)
• [Publications] K. Saito: "Development of a wide-temperature range VVV&VV photospectrometer and its applications to silica glass"Journal of Non-Crystalline Solids. 259. 81-86 (1999)
• [Publications] H. Kakiuchida: "Dielectric Relaxation in Silica Glass"Journal of Applied Physics. 86. 5983-5987 (1999)
• [Publications] K. Saito: "Effects of Al ions on the structural relaxation in silica glass"Journal of Non-Crystalline Solids. (印刷中). (2000)
• [Publications] 斉藤 和也(分担執筆): "非晶質シリカ材料応用ハンドブック"リアライズ社. 9/621 (1999)