歯周病原細菌における低分子ストレスタンパク質による広範囲調節機構の解析

2000 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 11771117
• Research Institution: Nagasaki University
• Principal Investigator: 大原 直也 長崎大学, 歯学部, 助教授 (70223930)
• Keywords: 嫌気性菌 / 酸素ストレス / OxyR / 歯周疾患

Research Abstract

歯周疾患関連細菌であるPorphyromonas gingivalisを用いて偏性嫌気性菌の酸素暴露における適応機構を解明することを目的として、嫌気状態と酸素暴露下における同菌の蛋白質の発現パターンの違いをP.gingivalis381株を用いて検討した。酸素暴露下において発現量の顕著に増加する蛋白質が複数存在することを昨年度報告したが、今年度は昨年度に引続きこれらの蛋白質の同定をおこなった。その結果、ほとんどの蛋白質はすでに報告されているSOD、AhpC、TpX等の分子であった。しかし、分子量約9kDa、等電点約4.7の蛋白質についてその部分アミノ酸配列を決定したところ、これまでに報告されていない分子であることが推定された。その遺伝子から予測される分子量、等電点はそれぞれ9194.89、4.74であった。この蛋白質をPG9とした。ところで、酸素ストレスによって発現が上昇する蛋白質の遺伝子を支配するものにOxyRが知られているが、PG9の遺伝子がOxyRの支配を受けているかを検討した。
P.gingivalis381株、33277株、およびそのOxyR::Tc株(oxyR欠損株)を嫌気培養後、酸素に暴露し、継時的に菌体を破砕し、RT-PCR法にてPG9のmRNA量の変化を調べた。その結果、OxyR::Tc株においても酸素暴露によりPG9のmRNA量は増加したが、親株に対してmRNA量が増加する時間が遅延することが明らかになった。このことから、PG9はOxyRの支配を部分的に受けていることが推測された。現在PG9の欠損株を作成し、酸素暴露下におけるPG9の役割を解析中である。