1999 Fiscal Year Annual Research Report
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11875169
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| Research Institution | Kyushu Sangyo University |
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Principal Investigator |
境 正志 九州産業大学, 工学部, 教授 (70069516)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
満生 慎二 九州産業大学, 工学部, 助手 (70320140)
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| Keywords | 微少気泡 / 界面 / 光学分割 / 吸着 / 相互作用 / DNA塩基 / アミノ酸種 / N-アセチル-D-ロイシン |
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| Research Abstract |
平成11年度は、気泡崩壊法による気液界面薄膜層を液滴の形で採取し、次の三つの系:A域N-アセチル-D-ロイシン、Cu(II)、D,L-アミノ酸種の(1:1/2:1)水溶液、B域N-アセチル-D-ロイシン、金属イオン種M(=Cu,Fe,Co,Ni,Zn,Cd,Pb,Al),D,L-ロイシンの(1:1/2:1)水溶液、その他の領域 アロバルビタール、DNA塩基種の(1:1)水溶液、を用いた。第一液滴中の成分分析により、気泡界面における疎水性N-アセチル-D-ロイシンによるアミノ酸種の光学分割とその分割に与える金属種の影響について調べた。この結果の一部分について平成12年7月にイギリスで開催される国際会議で報告する。又、気泡界面における疎水性アロバルビタール(チミン系)とDNA間の協同的相互作用についての結果については、オランダのJournal(Colloid and SurfaceB)に投稿するに至っている。いずれの溶液を用いても、崩壊気泡から生成する第一液滴は、崩壊直前の気泡表面の有効に薄膜層を採取することが証明され、今後の成果が期待される。
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Research Products
(1 results)
