2000 Fiscal Year Annual Research Report
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12355025
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| Research Institution | Toyota Technological Institute |
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Principal Investigator |
生嶋 明 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, 教授 (10029415)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
下平 憲昭 旭硝子中央研究所, 材料解析グループ, 主任研究員
松本 潔 旭硝子中央研究所, 材料解析グループ, グループ リーダー
斎藤 和也 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, 講師 (20278394)
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| Keywords | シリカガラス / 光リソグラフィー / 構造緩和 / ガラス転移 / エキシマレーザー |
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| Research Abstract |
本研究では、次々世代半導体に照準を合わせた、真空紫外透過波長域の広いシリカガラスを開発することを目的とする。具体的な処方箋として、申請者らが見出した構造緩和制御法を用いて、より構造無秩序性の小さいシリカガラスを創成し、157nmで95%/cm以上の内部透過率をもつ光学ガラスの実現を目指している。
本年度の研究実績を以下に示す。
1.157nm光リソグラフィー用光学ガラス材料に有用な添加物を含むシリカガラスの仮想温度決定法を確立した。
2.添加物が紫外吸収端に及ぼす影響を、定量的に分離して解析することに成功した。
3.添加物および熱処理温度の最適化を行い、157nmで内部透過率の6%向上に成功した。
4.光誘起ESRスペクトルを解析し、アンダーソン局在状態と光誘起欠陥生成の相関を明らかにした。
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[Publications] K.Saito: "Absorption edge in silica glass"Phys.Rev.B. 62・13. 8584-8587 (2000)
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[Publications] A.J.Ikushima: "Silica Glass-A material for photonics-"J.Appl.Phys.. 88・3. 1201-1213 (2000)
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[Publications] K.Saito: "Effects of Alions on the Structural Relaxation in Silica Glass"J.Non-Cryst.Solids. 270. 60-65 (2000)
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[Publications] N.Shimodaira: "VUV transmittance of fused silica glass influenced by thermal disorder"SPIE Proceedings on Optical Microlithography XIII. 1553-1559 (2000)
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[Publications] K.Saito: "Structural disorder and optical properties in silica glass"Proceedings of 25th Australian Conference on Optical Fiber Technology. 57-58 (2000)
