2001 Fiscal Year Annual Research Report
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12355025
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| Research Institution | Toyota Technological Institute |
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Principal Investigator |
生嶋 明 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, 教授 (10029415)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
下平 憲昭 旭硝子中央研究所, 材料解析グループ, 主任研究員
松本 潔 旭硝子中央研究所, 材料解析グループ, グループリーダー
斎藤 和也 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (20278394)
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| Keywords | シリカガラス / 光リソグラフィー / 構造緩和 / ガラス転移 / F_2エキシマレーザ |
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| Research Abstract |
本研究は、次々世代・光リソグラフィープロセスに照準を合わせた、真空紫外透過波長域の広いシリカガラスを開発することを目的とするものである。具体的には、構造緩和制御により構造無秩序性の小さなシリカガラスを創製し、157nm(F_2エキシマレーザーの発振波長)で95%以上の内部透過率をもつ光学ガラスの実現を目指している。
本年度の研究実績を以下に示す。
(1)フッ素がシリカガラスの紫外吸収端に及ぼす影響を、構造に及ぼす効果と、構造緩和に及ぼす効果に分離して把握することに成功した。
(2)F_2エキシマレーザーの内部透過率を93%まで向上させることに成功した。(特許申請中)
(3)F_2エキシマレーザー照射によるシリカガラスの温度上昇をシミュレートし、照射による透過率減少の影響を定量化した。(特許申請中)
(4)紫外吸収端の正確な測定方法を確立した。(特許申請中)
(5)Arガス中の紫外線照射により、真空紫外用光学材料の劣化した特性が回復できることを見出した。
(6)原子量の大きな添加物により透過特性をさらに向上させる可能性を見出した。
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Research Products
(3 results)
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[Publications] N.Shimodaira, K.Saito, A.J.Ikushima: "Raman Spectra of fluorine-doped silica glasses with various fictive"J. Appl. Phys.. 91. 3522-3525 (2002)
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[Publications] K.Saito, A.J.Ikushima: "Effects of Flourince on Structure, Structural Relaxation and Absorption Edge in Silica Glass"J. Appl. Phys.. 91. 4886-4890 (2001)
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[Publications] H.Kakiuchida, K.Saito, A.J.Ikushima: "Local structural relaxation around OH in silica glass"Jpn. J. Appl. Phys.. (Accepted). (2002)
