2000 Fiscal Year Annual Research Report
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12555099
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
松村 正清 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (30110729)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
畑谷 成郎 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助手 (90302942)
三村 秋男 (株)日立製作所, 研究員
内田 恭敬 帝京科学大学, 理工学部, 助教授
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| Keywords | Siグレイン / エキシマレーザ |
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| Research Abstract |
大粒径のSiグレインの形成には、申請者が開発した位相制御エキシマレーザ溶融再結晶化法が最適であると考えている。なお方法によって、有機SOGを下地膜に用いることにより、24ミクロンというTFT寸法より大きな結晶粒が形成できることは確かめてある。この基盤にたって、大結晶粒を所定の位置に隣接して形成する手法の開発する。具体的には、直交した2枚の位相シフトマスクを試料直上および試料から数mm離して設置し、この上部からエキシマレーザの平面光を照射することによって、光の回折現象を用いて、2次元の光強度分布を実現する。得られる結晶は、光強度分布と試料内に蓄えられた熱エネルギーの拡散によって殆ど決まると考えられるので、これらを理論的に解明するとともに、実験的にも、様々な位相シフトマスク並びに試料について結晶化の様子を調べて、最適化を行い、目的とする結晶成長を再現性よく実現する方法を確立する。
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