2000 Fiscal Year Annual Research Report
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12555197
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| Research Institution | Nagoya University |
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Principal Investigator |
杉村 博之 名古屋大学, 工学研究科, 助教授 (10293656)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
中桐 伸行 ニコン, 主幹研究員
井上 泰志 名古屋大学, 工学研究科, 助手 (10252264)
高井 治 名古屋大学, 工学研究科, 教授 (40110712)
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| Keywords | 有機薄膜 / 自己組織化単分子膜 / 有機シラン / 真空紫外光 / 微細加工 / リソグラフィ / レジスト / 原子間力顕微鏡 |
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| Research Abstract |
これまでの基礎研究の成果に基づき、単分子膜レジストを真空紫外光によって露光する光リソグラフィ装置を新規に設計し試作した。装置の主な機能を以下に列記する。
(1)フォトマスクとウエハ位置を正確に合わせることの出来るマスクアライメント機構,
・波長172nmのエキシマランプとその強度モニター。
・0.5μm以下の重ね合わせ精度を狙ったアライメントマークの仕様を設計した。
・XYZ回転あおりの5軸制御ステージの作製。
等
(2)光源からフォトマスクまでの光路での減光を防ぐまための窒素置換機構、
波長172nmの紫外光は酸素によって吸収されるために、大気中でそのまま使用すると減光されてしまい、レジスト膜面へとうたつする光の量が著しく減少してしまう。そのため、光路内部を窒素で置換し減光を防ぐ機構を作製した。
(3)マスクとウエハの間隔を制御するプロキシミティ制御機構。
単分子膜の露光には若干の酸素供給が必要とされる。そのため、マスクとウエハ間にあるていど間隙があったほうが望ましい。解像度の低下をさけるためウエハーマスク間にサブミクロンのギャップを設ける機構を作製した。
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