2001 Fiscal Year Annual Research Report
電子写真システムの設計支援シミュレーション法の開発
Project/Area Number |
12555220
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Research Institution | Doshisha University |
Principal Investigator |
日高 重助 同志社大学, 工学部, 教授 (80104602)
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
巽 洋 シャープ株式会社, 主任研究員
宮坂 徹 日立製作所, 機械研究所, 主任研究員
下坂 厚子 同志社大学, 工学部, 講師
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Keywords | トナー粒子帯電モデル / 衝突帯電 / 有限要素法 / 粒子要素法 / 磁気ブラシ形成挙動 / 2成分現象 / 現象特性 / スキャベンジ効果 |
Research Abstract |
「トナー粒子帯電現象のモデル化」昨年度に引き続いて高分子粒子の衝突帯電実験を行った.とくに有限要素法シミュレーションにより,高分子衝突時の接触挙動と状態を微視的に検討した.これらの結果にもとづいて衝突時の電荷移動現象を定式化し,その妥当性を振動粒子群の帯電挙動シミュレーションに適用したところ実験結果と推算結果は良好な一致を示した. 「2成分磁気ブラシ現像システムのシミュレーション」2成分電子写真システムにおける磁気ブラシの形成挙動と現像特性に関するシミュレーション法を明らかにした.2成分電子写真システムにおける磁気ブラシの特性は高画質画像を得るために極めて重要で,目的の磁気ブラシを得るためには磁気ブラシの特性と磁場ならびにキャリアー粒子特性の関係を明らかにしなければならない.そこで磁気ブラシ形状のキャラクタリゼーションをフーリエ解析とフラクタル解析を用いて行い,粒子要素法シミュレーションにより希望の形状を有する磁気ブラシの形成のための磁場と粒子特性の関係を検討した.つぎに,キャリアーとトナー粒子から成る2成分現像剤の現像挙動のシミュレーションに成功した.現像場はマグネットロールからの磁場とキャリアー粒子が作る磁場ならびに静電潜像とバイアス電圧による電場が重畳する場で,それら刻々変化する電磁場内をトナー粒子が運動して静電潜像を現像する.これら複雑に変化する場でのキャリアーとトナー粒子群のシミュレーションを行い,各種装置特性ならびにバイアス電圧の大きさと波形が現像特性に与える影響を明らかにした.さらにスキャベンジ効果抑制のための装置条件も明らかにした.
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