懸濁ゾル-ゲル法による抗菌剤微粒子含有マイクロカプセルの調製

2000 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 12650748
• Research Institution: Niigata University
• Principal Investigator: 木村 勇雄 新潟大学, 地域共同研究センター, 助教授 (00169921)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 谷口 正之 新潟大学, 工学部, 教授 (00163634) ; 田中 真人 新潟大学, 工学部, 教授 (40018495)
• Keywords: ゾル-ゲル法 / 銀スルファト錯体 / シリカ / テトラエトキシシラン / 構造制御 / マイクロカプセル / 逆相懸濁系 / 抗菌剤

Research Abstract

酢酸銀水溶液にチオ硫酸ナトリウムおよびチオ硫酸ナトリウムを加えて抗菌剤となる銀スルファト錯体含有水溶液を調製した。ここに酢酸を加えて錯体を析出させ、遠心沈降させ、上澄み液を捨てた後、さらに酢酸水溶液を添加することによってpHを調整し、分散相とした。一方、シリカ原料のテトラエトキシシラン(TEOS)と懸濁安定剤のソルビタンモノオレエート(Span80)をヘキサンに溶解して連続相とした。これらを混合、撹拌して逆相懸濁系を形成させ、攪拌を48h維持することにより、分散相界面におけるTEOSの加水分解と脱水縮合を起こさせ、シリカマトリックスのマイクロカプセルを調製した。
懸濁安定剤濃度5mol/m3以下では安定な懸濁系が形成されず、カプセルは生成しなかった。7.5mol/m3以上で真球状のカプセルが生成した。
平均粒径は分散安定剤濃度が大きいほどわずかに小さくなり、撹拌速度が大きいほど小さくなった。このことから初期液滴径が最終カプセル粒径に影響することを確認した。錯体濃度が大きいと、粒径はわずかに大きくなった。これは分散相粘度が増すためであると思われる。
EPMAにより錯体はカプセル表面に多く分布していることを確認した。抗菌剤としての用途を考えるとき、長期間に渡る徐放性を持つことが望ましい。そこで、分散相に錯体微粒子の分散安定剤としてポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート(Tween80)を添加したところ、期待した通りの改善が認められた。