レタスの花芽形成並びに茎伸長の制御に関する基礎的研究

2001 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 12760021
• Research Institution: Kagawa University
• Principal Investigator: 奥田 延幸 香川大学, 農学部, 助教授 (20253255)
• Keywords: レタス / 花芽形成 / 茎伸長 / 発育制御

Research Abstract

供試品種は極早生品種の'極早生シスコ'および'マノア'である.花序と花芽の発達段階は,昨年度の実験結果から合計9段階に分け,総苞分化期に達したときに花序が分化したと判断した.
まず,茎の伸長と花序形成の制御のために,物理的方法として低温処理の影響を検討した.それぞれの品種の催芽種子を播種して10週間まで自然日長のガラス温室で生育させた.この間,時期(播種直後から3週間後まで)と期間(1から3週間)を組み合わせた12区については,5℃の低温室に移動して低温処理した.その結果,'マノア'で播種10週間後に花序が分化し,低温処理期間が長くなるほど花芽発達段階が低くなる傾向がみられた.この傾向は低温処理開始時期が遅くなるほど顕著であった.'極早生シスコ'では実験期間中に全処理区で花序は分化しなかったが,対照区と比較して低温処理区では花芽発達段階が低くなった.両品種ともに,対照区と比較して,低温処理区の茎は,処理期間が長くなるほど短くなる傾向を示した.
次ぎに,化学的方法としてジベレリンの生合成を阻害するウニコナゾール処理の影響を検討した.それぞれの品種の催芽種子を播種して自然日長のガラス温室で生育させた.播種後1週間後に濃度0〜50ppmのウニコナゾールを土壌に処理して11週間まで生育させた.その結果,対照区では播種4週間後から茎の伸長がみられたが,1ppm以上のウニコナゾール処理区では播種8週間後まで茎の伸長が抑制され,5ppm以上ではその影響は顕著であった.また,ウニコナゾール処理区では花序形成が遅延する傾向がみられた.
これらの結果から,花序の形成および茎の伸長の制御方法として低温処理並びにウニコナゾール処理の可能性が示唆された.