2000 Fiscal Year Annual Research Report
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12792007
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| Research Institution | Japan Advanced Institute of Science and Technology |
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Principal Investigator |
松村 英樹 北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科, 教授 (90111682)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
和泉 亮 北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科, 助手 (30223043)
新田 晃平 北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科, 助教授 (70260560)
寺野 稔 北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科, 教授 (90251975)
木田 健一郎 株式会社石川製作所, システム機器部, 研究員
増田 淳 北陸先端科学技術大学院大学, 材料科学研究科, 助手 (30283154)
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| Keywords | インプリント技術 / リソグラフィー / パターン転写 / 薄膜トランジスタ / 液晶ディスプレイ |
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| Research Abstract |
本研究は、液晶ディスプレイに用いられる薄膜トランジスタ(TFT)製造の際のパターン転写技術に関するものである。現行のパターン転写は、スピンコートしたフォト・レジストにパターンの描かれた光を照射することにより行っているが、本研究では、高分子薄膜を試料に密着させ、その上からパターンの描かれた原版を圧着して凹凸のパターンを高分子膜上に形成する、いわゆるインプリント方式の印刷技術を用いる新規パターン転写法により、液晶ディスプレイの廉価な生産技術を提供することを目的としている。
まず、高分子薄膜としてポリエチレン、ポリスチレン、ポリスチレン系感光膜などを使用してパターン転写実験を行い、ポリスチレン系感光膜に凹凸パターンを形成した後に紫外光照射により固化させると、その後のエッチング工程にも耐えられ、数μmサイズのパターン転写が可能なことを明らかにした。次に、10cm×10cmサイズのインプリント・パターン転写装置を構築し、これにより、アモルファス・シリコンTFTの試作を行ったところ、それが、従来からのフォト・リソグラフィーを用いた場合と同程度の特性を示すことを見い出し、本年度の研究目的を達成した。
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[Publications] Hideki Matsumura: "Summary of research in NEDO Cat-CVD project in Japan"Extended Abstract of the 1st International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process. 1-14 (2000)
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[Publications] Masahiro Sakai Hideki Matsumura: "High performance amorphous-silicon thin film transistors prepared by catalytic chemical vapor deposition with high deposition rate"Extended Abstract of the 1st International Conference on Cat-CVD(Hot-Wire CVD) Process. 311-314 (2000)
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[Publications] Minoru Terano: "Lifetime of growing polymer chain in stopped-flow propene polymerization using pre-treated Ziegler catalysits"Macromol.Chem.Phys.. 201. 289-295 (2000)
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[Publications] Koh-hei Nitta: "Comparison of tensile properties in the pre-yield region of metallocene-catalyzed and Zeigler-Natta-catalyzed linear polythelenes"J.of Materials Science. 35. 2719-2727 (2000)
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[Publications] Akira Izumi: "Plasma and fluorocarbon-gas free Si dry etching process using a Cat-CVD system"Microelectronic Engineering. 51-52. 495-503 (2000)
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[Publications] Atushi Masuda: "Effects of atomic H and chamber cleaning in catalytic CVD on reproducibility of a-Si:H film properties"Digest of Technical Papers 2000 International Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays-TFT Technologies and Related Materials-. 219-222 (2000)
