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2002 Fiscal Year Annual Research Report

骨補填材用キトサンフィルムへの^<60>Coγ線照射による材質変化及び生体反応について

Research Project

Project/Area Number 13672064
Research InstitutionMatsumoto Dental University

Principal Investigator

伊藤 充雄  松本歯科大学, 歯学部, 教授 (70064681)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 溝口 利英  松本歯科大学, 付置研究所, 助手 (90329475)
Keywordsキトサン / ^<60>Coγ線 / 天然高分子 / 滅菌 / 照射
Research Abstract

脱アセチル化度70%、分子量2.4×10^6(D70)、脱アセチル化度85%、分子量1.9×10^6(D85)、と脱アセチル化度99%分子量、1.1×10^6(D99)を用い、^<60>Coγ線を照射した。γ線を照射することによって、キトサンの色彩の変化と分子量の減少が認められた。分子量はD70、D85、D99ともにすべて10^6から10^5に減少した。
また、脱アセチル化度が低いキトサンの引張強さは減少する傾向が得られた。伸びについてはすべてのキトサンで減少した。その減少が著しかったのはD70であった。フィルムの硬さが大きくなることは、軟組織に対して機械的刺激をあたえ、炎症等の原因となることは重要な問題であると考えられた。
D70、D85とD99の処理前と処理後のキトサンをそれぞれに用いてフィルムを作製し、pH7.2に中和滴を行った。その後、ラット頭蓋骨に骨膜を剥離後押入した。その結果、γ線照射前のD99は分解が遅く骨との顕著な反応は認められなかった。しかし、D70とD85に関しては分解が早く、骨吸収が著しく認められた。一方、γ線照射した後の反応は、D99においてもD70とD85と同様に著しく骨吸収が確認された。D99を用いて、骨吸収が生じた1週間後には骨形成が確認された。分子量が低くなり、脱アセチル化度が低いキトサンほど骨吸収が著しく、骨吸収後の骨形成は遅くなる傾向が確認された。
したがって、分子量が低く、脱アセチル化度の低いキトサンは他の骨伝導物質と併用することが必要であることが本研究で示唆された。

  • Research Products

    (1 results)

All Other

All Publications (1 results)

  • [Publications] 山倉和典: "^<60>Co-γ線を照射したキトサンフィルムの材質変化"日本口腔インプラント学会誌. 15・3. 341-345 (2002)

URL: 

Published: 2004-04-07   Modified: 2016-04-21  

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