地下水ヒ素汚染問題における自然由来ヒ素含有層の形成過程

2001 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 13680599
• Research Institution: Niigata University
• Principal Investigator: 久保田 喜裕 新潟大学, 理学部, 助教授 (40282975)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 赤井 純治 新潟大学, 理学部, 教授 (30101059) ; 石塚 紀夫 新潟大学, 理学部, 教授 (10272808)
• Keywords: 地下水ヒ素汚染 / 沖積層の形成過程 / ヒ素の挙動 / 湖底堆積物 / 高濃度ヒ素 / 泥炭質堆積物 / 農薬"ヒ酸鉛" / 非汚染土壌の鉛濃度

Research Abstract

本研究は地下水ヒ素汚染問題において沖積層の形成過程からヒ素の挙動を検討するものである.本年度は中国において情報・資料収集,および新潟平野においてボーリング調査を実施した.
1.中国では西北大学(西安)および大地構造研究所(長沙)の研究者と交流し,今後の協力を得るとともに,貴重な情報,文献等資料の提供を受けることができた.
2.新潟平野では平野北西縁に位置する佐潟(砂丘湖)において,オールコアボーリング(掘削深度12m)を実施し,佐潟の形成過程の復元とともに,形成期から現在までの堆積物中のヒ素濃度分布を検討した.
(1)佐潟の湖底堆積物は,植物根・木片を含有する砂質〜泥炭質シルトおよび泥炭の互層からなり,地表よりG.L.-4.34mまで分布している.その下位には淘汰不良の細粒〜中粒砂(河口州〜氾濫源堆積物)が孔底(G.L-12m)まで分布しているが,その間,湖底堆積物の下位G.L.-5.53〜6.08mに砂質〜泥炭質シルトおよび泥炭質〜シルト質砂(層厚0.65m)を確認した.これは"古佐潟"とでもいうべき,現在の佐潟の前駆的堆積物と考えられる.
(2)湖底堆積物のヒ素濃度は,平均40〜50ppmと高濃度異常を示し,最高100.94ppmであった.下位の沖積砂層のヒ素濃度は5.36ppmで,自然界の通常の値を示した.高濃度ヒ素は泥炭質堆積物に集中している.
(3)地元ではかつて農薬"ヒ酸鉛"を使用していたため,湖底堆積物の鉛濃度も併せて分析した.平均濃度は10〜20ppm前後,最高26.12ppmであったが,これは非汚染土壌の鉛濃度の範疇であった.

Research Products

• [Publications] Kubota, Yoshihiro, "Team Plain": "Supply source of natural originated arsenic and human activity"Arsenic Contamination of Groundwater. 138-141 (2001)
• [Publications] 久保田喜裕: "河川作用と環境問題-自然由来ヒ素の供給を例に-"地学団体研究会第5回総会(山形)公園要旨集. 78-82 (2001)