2001 Fiscal Year Annual Research Report
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13740323
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
渡邊 一雄 東京大学, 大学院・総合文化研究科, 助手 (90312206)
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| Keywords | ナノ粒子 / 配列制御 / コヒーレント電場 / クラスター / 固体表面 / STM |
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| Research Abstract |
固体表面上に分散させた金属クラスターにレーザーを照射することによりその配列制御を行うのが本研究の目的である。今年度はサイズの揃った金属クラスターを再現性良く作成することを第一の目標とし、水溶性高分子の存在下で金属イオンを還元する方法で、パラジウムの高分子保護金属ナノクラスターを作成した。透過型電子顕微鏡によって観察を行ったところ、クラスターサイズは3.5±0.5nm程度であることがわかった。また、還元剤の種類によってX線回折のパターンが変化することを見出した。すなわち、還元の方法によってクラスターの結晶構造に違いが生ずることがわかった。
クラスター合成と並行して、レーザー光を縦・横偏光成分に分離しそれぞれの強度を調整することで両者の比率を任意にコントロールするシステムの開発を進めた。光強度をモニターしながら透過率可変型のNDフィルターで調整することでこれを実現する。GP-IB経由でのパーソナルコンピューターによる自動制御を目指して現在開発中である。
今後は、来年度初めに分子科学研究所に新規に導入予定の外部からの光照射が可能な極低温超高真空STM装置を用いて、固体表面上に分散した金属クラスターの観察を行い、レーザー照射による影響を調べる予定である。具体的には、金属クラスターの種類・保護高分子膜の厚さ・固体表面の種類による配列の変化を調べ、さらにレーザー強度・波長・偏光比率・固体表面温度による効果を確かめる。
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