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2014 Fiscal Year Annual Research Report

BaSi2を用いたシリコンベース高効率薄膜太陽電池

Research Project

Project/Area Number 13J01713
Research InstitutionUniversity of Tsukuba

Principal Investigator

馬場 正和  筑波大学, 大学院数理物質科学研究科, 特別研究員(DC1)

Project Period (FY) 2013-04-01 – 2016-03-31
Keywords半導体デバイス / ホモ接合 / 結晶粒界
Outline of Annual Research Achievements

Si基板上へundoped n-BaSi2, B-doped p-BaSi2の積層構造をMBE法により形成した際に、Bドープp層においては、粒界部分、p/n接合界面においてクラスター化したと考えられるBの析出物が多く存在していることも確認された。電子線誘起電流法(EBIC法)を用いて界面近傍における電場分布を断面方向から評価したところ、界面において電場の存在が確認でき、pnホモ接合の形成に成功したといえる。ただし、信号強度はp-Si/n-BaSi2のヘテロ界面と比較して小さく、p層のキャリア密度が小さい可能性が推察される。この原因としては、添加したBがSiと置換せずにクラスター化したため、求めたキャリア密度まで高まらなかったと考えられる。
ケルビンプローブ原子間力顕微鏡(KFM)を用いて、多結晶Siの粒界近傍における、配向成長したBaSi2膜部分中のバンドベンディングを調べたところ、大きなバンドベンドは観察されなかった。これは、多結晶Si基板上に形成した際に、Si基板の粒界はBaSi2膜中に引き継がれないことを示唆している。将来的にBaSi2をより安価なガラス基板上に形成する際に、Al誘起結晶成長法(AIC法)を用いて形成した(111)方向に面方位を制御した多結晶Si面を用いる予定である。本研究から、単結晶Si(111)面状に形成したBaSi2の知見を、直接、多結晶Si(111)へ展開した場合に用いることができるといえる。
前年度に行った研究から、Si(111)面上に配向成長したBaSi2の粒界は下に凸のバンドベンディングを有しており、少数キャリアの正孔を捕獲し難い構造であることが明らかにされた。TEM観察から(011)/(011)界面で構成される双晶であることが判明し、界面エネルギー的観点からBa原子・Si四面体から構成される界面が安定な粒界であることが分かった。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

2: Research has progressed on the whole more than it was originally planned.

Reason

1年目の成果を基に、Si(111)基板上にBaSi2のpn接合を作製し、界面に電場が存在していることを明らかにした。p型層のキャリア密度が十分に高くないことは太陽電池として動作させる上で改善が必要であるが、高キャリア密度化を達成することで太陽電池として変換効率が得られることが期待できる。また、太陽電池に好ましい粒界の構造・特性を把握できた点は、3年目の研究を進める上で非常に大きな利点である。

Strategy for Future Research Activity

p型BaSi2層中のBの活性化として、高温アニール処理、レーザーアニール処理の2点を検討している。BaSi2は高温ストレス下に長時間放置するとクラックが発生してしまうため、膜に影響を与えない条件の探索を第一に行う予定である。また、膜厚制御、表面反射防止膜堆積を通して太陽電池構造の最適化を図り、実際に光照射を行うことで太陽電池として動作することを実現する。

  • Research Products

    (7 results)

All 2015 2014 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results,  Open Access: 2 results,  Acknowledgement Compliant: 2 results) Presentation (4 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Minority carrier diffusion length of undoped BaSi2 epitaxial films on Si(001) substrates by electron-beam-induced-current technique2014

    • Author(s)
      Masakazu Baba, Kentaro Watanabe, Kosuke O. Hara, Kaoru Toko, Takashi Sekiguchi, Noritaka Usami, Takashi Suemasu
    • Journal Title

      Japanese Journal of Applied Physics

      Volume: 53 Pages: 078004-1,-3

    • DOI

      10.7567/JJAP.53.078004

    • Peer Reviewed / Open Access / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] Potential variation around grain boundaries in BaSi2 films grown on multicrystalline silicon evaluated using Kelvin probe force microscopy2014

    • Author(s)
      Masakazu Baba, Kosuke O. Hara, Daichi Tsukahara, Kaoru Toko, Noritaka Usami, Takashi Sekiguchi, Takashi Suemasu
    • Journal Title

      Journal of Applied Physics

      Volume: 116 Pages: 235301-1, -6

    • DOI

      10.1063/1.4904864

    • Peer Reviewed / Open Access / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] BaSi2 domain boundary の最安定構造及び界面特性についての考察2015

    • Author(s)
      馬場 正和、香山 正徳、都甲 薫、末益 崇
    • Organizer
      第62回応用物理学会春季学術講演会
    • Place of Presentation
      神奈川県、平塚市
    • Year and Date
      2015-03-14 – 2015-03-14
  • [Presentation] Evaluation of potential variation around grain boundaries in BaSi2 on poly-crystalline Si substrates2014

    • Author(s)
      M. Baba, W. Du, R. Takabe, K. Toko, K. Watanabe, T. Sekiguchi, K. O. Hara, N. Usami, T. Suemasu
    • Organizer
      The 6th IEEE International Nanoelectronics Conference
    • Place of Presentation
      Sapporo, Hokkaido
    • Year and Date
      2014-07-30 – 2014-07-30
  • [Presentation] Crystal growth of undoped and impurity doped BaSi2 films on poly-crystalline Si2014

    • Author(s)
      Masakazu Baba, Kosuke O. Hara, Daichi Tsukahara, Kaoru Toko, Noritaka Usami, Takashi Suemasu
    • Organizer
      ICSS Silicide 2014
    • Place of Presentation
      Tokyo, Japan
    • Year and Date
      2014-07-19 – 2014-07-19
  • [Presentation] Grain boundaries characterization of semiconducting BaSi2 thin films on a polycrystalline Si substrate2014

    • Author(s)
      M. Baba, K. O. Hara, K. Watanabe, W. Du, D. Tsukahara, K. Toko, K. Jiptner, T. Sekiguchi, N. Usami, T. Suemasu
    • Organizer
      40th IEEE Photovoltaic Specialist Conference
    • Place of Presentation
      Denver, USA
    • Year and Date
      2014-06-10 – 2014-06-10
  • [Remarks] 環境半導体・磁性体研究室 Publications

    • URL

      http://www.bk.tsukuba.ac.jp/~ecology/publication.html

URL: 

Published: 2016-06-01  

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