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2014 Fiscal Year Annual Research Report

協奏機能触媒開発に向けた層状結晶層間・表面の精密な設計

Research Project

Project/Area Number 13J02320
Research InstitutionWaseda University

Principal Investigator

朝倉 裕介  早稲田大学, 理工学術院, 特別研究員(DC2)

Project Period (FY) 2013-04-01 – 2015-03-31
Keywords協奏機能触媒 / 層状ケイ酸塩 / シリル化反応 / 塩基触媒
Outline of Annual Research Achievements

昨年度、層状オクトシリケート層間に規則的にピペリジノ基を固定化し、Si-OH基あるいはSi-OCH3とピペリジノ基のN部の距離が1つの固体中で一定な物質を合成し、触媒活性調査を行った。本年度は、昨年度確立した触媒合成法を基に、①層状物質を触媒として用いる際に問題となる層間へのアクセス性の低さを克服するための層間膨潤剤の利用および、②触媒の合成の一部を変化させることで一連の触媒を合成し、活性点近傍の環境の違いのニトロアルドール反応の変換率への影響調査の二つの研究を主として行った。
①昨年度合成した層表面に規則的に配列した触媒をニトロアルドール反応へ適用する際に、層間膨潤剤としてN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)を導入した。その結果、DMFを導入しなかった場合に比して転換率が著しく大きくなったことが示された。層状オクトシリケート誘導体触媒をDMF処理しXRD測定を行うと、10 nm以上層間が拡大されたことを示す回折が観測されており、従来の層状ケイ酸塩に対する膨潤に比して非常に大きなものとなっていた。したがって、層間が膨潤されたことにより基質のアクセス性が上昇したことで、触媒活性が上昇したと考えられる。
②上記DMFで触媒層間を膨潤させながらの触媒反応は、10 nm以上の層間で基質が拡散するため、基質の大きさよりもはるかに大きな層間間隔を持って反応するため、一つの基質が層表面の活性点に対して相互作用する際に、隣の層の活性点が相互作用することが無視できる。そのため、酸点(Si-OH基)と塩基点(ピペリジノ基のN部)の距離の違いの協奏作用を調査しやすいと考え、DMF導入下で、酸点と塩基点の距離が異なる触媒を合成し、ニトロアルドール反応の転換率を調査した。活性が最も高い最適な酸-塩基点間の距離があることが示され、酸点と塩基点間の距離が触媒反応に大きく影響することが分かった。

Research Progress Status

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

26年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (8 results)

All 2015 2014

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results,  Acknowledgement Compliant: 2 results) Presentation (6 results)

  • [Journal Article] Silylation of Layered Silicate RUB-51 with SiCl4 and Conversion of the Silylated Derivative to a Crystalline Microporous Material2014

    • Author(s)
      Yusuke Asakura, Yasuhiro Sakamoto, Kazuyuki Kuroda
    • Journal Title

      Chemistry of Materials

      Volume: 26 Pages: 3796-3803

    • DOI

      10.1021/cm5014224

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Journal Article] 層状ケイ酸塩の層間縮合による多孔体形成に向けた層間修飾2014

    • Author(s)
      朝倉裕介, 黒田一幸
    • Journal Title

      ゼオライト

      Volume: 31 Pages: 78-87

    • Peer Reviewed / Acknowledgement Compliant
  • [Presentation] 層状オクトシリケート層間への15-クラウン-5-エーテルの導入2015

    • Author(s)
      廿楽英宏, 高山良介, 朝倉裕介, 黒田義之, 下嶋敦, 和田宏明, 黒田一幸
    • Organizer
      日本化学会第95春季年会
    • Place of Presentation
      日本大学 理工学部船橋キャンパス
    • Year and Date
      2015-03-26 – 2015-03-29
  • [Presentation] N,N-ジメチルホルムアミド存在下における層状オクトシリケート誘導体の触媒活性調査2015

    • Author(s)
      松本拓隼, 朝倉裕介, 下嶋敦, 黒田一幸
    • Organizer
      日本セラミックス協会 2015年 年会
    • Place of Presentation
      岡山大学 津島キャンパス
    • Year and Date
      2015-03-18 – 2015-03-20
  • [Presentation] 層状ケイ酸(H-Magadiite)のN-メチルホルムアミド中での還流を経由した層間縮合2014

    • Author(s)
      朝倉裕介, 穂坂奈美, 長田師門, 下嶋敦, 黒田一幸
    • Organizer
      第30回ゼオライト研究発表会
    • Place of Presentation
      タワーホール船堀
    • Year and Date
      2014-11-26 – 2014-11-27
  • [Presentation] 層状オクトシリケートを利用した酸-塩基触媒の合成とDMF添加による層間隔拡大・活性向上2014

    • Author(s)
      松本拓隼, 朝倉裕介, 下嶋敦, 黒田一幸
    • Organizer
      日本化学会 第4回CSJ化学フェスタ
    • Place of Presentation
      タワーホール船堀
    • Year and Date
      2014-10-14 – 2014-10-16
  • [Presentation] 層状オクトシリケー トを利用した酸-塩基点間距離が制御された触媒の合成とその触媒能2014

    • Author(s)
      松本拓隼, 朝倉裕介, 下嶋敦, 黒田一幸
    • Organizer
      第114回触媒討論会
    • Place of Presentation
      広島大学 東広島キャンパス
    • Year and Date
      2014-09-25 – 2014-09-27
  • [Presentation] 低次元シリケートCsHSi2O5におけるプロトンの振動状態2014

    • Author(s)
      岩本慧, 望月大, 長田師門, 朝倉裕介, 黒田一幸, 松井広志
    • Organizer
      日本物理学会2014年秋季年会
    • Place of Presentation
      中部大学 春日井キャンパス
    • Year and Date
      2014-09-07 – 2014-09-10

URL: 

Published: 2016-06-01  

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