2002 Fiscal Year Annual Research Report
Project/Area Number |
14040210
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Research Institution | University of Yamanashi |
Principal Investigator |
近藤 英一 山梨大学, 工学部, 助教授 (70304871)
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Keywords | 超臨界液体 / 二酸化炭素 / ナノ空間 / 薄膜体積 / 埋め込み / 集積回路配線 |
Research Abstract |
超臨界CO2は,液体なみの高密度,気体なみの高拡散性・低粘性,さらにゼロ表面張力や溶媒能を兼ね備えた,特異な流体である.安定,安価,無害,低コストであり,リサイクル性もあることから,食品産業などですでに工業的に利用されている.半導体製造プロセスでも,洗浄・乾燥工程や,低誘電率薄膜の作製工程で,超臨界CO2の利用が試みられている. この超臨界CO2を金属堆積のための反応場として用い,有機金属を溶解させ,ナノ空間構造内にCu堆積加工が可能であることを実証した.膜は(111)配向しており,信頼性の高い膜質であることを確認した.比抵抗2.15μΩ.cmと十分低い値が得られた.さらに,きわめて高い反射率が得られた。堆積は, Fe,Au,WN,TiN,TaNなど導電性下地上に優先的に起こった。原料のCuへの転換率はきわめて高いことも判明した.化学気相蒸着法にくらべて100℃以上のプロセス低温化が可能であることを確認した.このような優れた特長が、CO2の溶媒能に由来することを,超臨界Ar流体との比較検討を行うことで,確認した.
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Research Products
(6 results)
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[Publications] E.Kondoh, K.Kato: "Characteristics of copper deposition in a supercritical C02 fluid"Microelectronic Engineering. 64. 295 (2002)
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[Publications] E.Kondoh: "Copper Deposition Characteristics from a Supercritical CO2 Fluid"Advanced Metallization Conference 2002, Sep. 29-Oct. 1, San Diego,2002.
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[Publications] 近藤英一: "超臨界CO2中でのCu薄膜の堆積"LSI配線における原子輸送・応力問題第8回研究会(応用物理学会表面分科会主催),2002年7月. (2002)
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[Publications] 近藤英一: "超臨界二酸化炭素を用いたLSI銅配線用薄膜の堆積"化学工学会第35回秋季大会,2002年9月. (2002)
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[Publications] 近藤英一: "超臨界CO2中でのCu薄膜の堆積特性"第63回応用物理学会学術講演会講演予稿集. 760 (2002)
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[Publications] 近藤英一: "超臨界流体を利用した配線形成技術"応用物理学会シリコンテクノロジー分科会電子情報通信学会シリコン材料・デバイス研究会. 49. 47 (2003)